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一、概述 现代各种测量、分析仪表都正朝着“智能化”方向发展。pH计(即酸度计)是在电化学领域被广泛应用的一种测量仪器。目前国内该类仪器仍然存在着测量精度低,功能单一,使用繁琐以及不能记录测试结果等一系列弊病。特别是在校准定标过程中,由于要反复调整斜率值和零电位偏差值,因而使得操作极为复杂。因此,根据电化学领域的实际需要,我们研制了一台采用MCS-51系列单片机8031做为控制的酸度/离子/温度计。由于使用了单片机,使得校准定标一次即可完成,并且大大提高了测试的精度和完善了测量功能。 相似文献
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目的 研发一种高精高效单晶碳化硅表面抛光技术。方法 采用电磁场励磁的大抛光模磁流变抛光方法加工单晶碳化硅,利用自制的电磁铁励磁装置与磁流变抛光装置,进行单因素实验,研究电流强度、工作间隙和抛光时间等工艺参数对单晶碳化硅磁流变抛光加工性能的影响,并检测加工面粗糙度及其变化率来分析抛光效果。结果 在工作间隙1.4 mm、电流强度12 A的工艺参数下,加工面粗糙度值随着加工时间的增加而降低,抛光60 min后,加工面粗糙度值Ra达到0.9 nm,变化率达到98.3%。加工面粗糙度值随通电电流的增大而减小,随着工作间隙的增大而增大。在工作间隙为1.0 mm、通电电流为16 A、加工时间为40 min的优化参数下抛光单晶碳化硅,可获得表面粗糙度Ra为0.6 nm的超光滑表面。结论 应用电磁场励磁的大抛光模盘式磁流变抛光方法加工单晶碳化硅材料,能够获得亚纳米级表面粗糙度。 相似文献
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