基于PNP自动映射分区的安全USB技术研究与实现

目前多数安全USB设备使用时,需要开启一个应用程序界面来对USB设备进行读写、加密/解密.对此,提出并实现了一种利用硬件PNP技术自动对USB映射为本地盘符,拔下时自动删除盘符的技术.读写文件时,对USB设备自动透明加解密;安全U盘使用前经过授权中心统一注册与授权,划分为权限注册区和加密区;用户密码验证采用基于密码的密码系统说明书(RFC2898)和应用伪随机函数导出密钥(PBKDF2);权限管理采用预先设定好的内、外网策略,内网策略分为多个等级.在实际应用中取得了较好效果.     

溜冰场制冷负荷的分析计算及设备选型探讨

本文介绍了溜冰场在不同情况下的制冷负荷分析计算,得出滑冰场的负荷估算指标并对设备的选型进行探讨.     

一种新型流量计的技术特点和应用

流量是工业生产过程的一个重要计量参数，而用来测量流量的仪表种类繁多，可以说没有一种流量仪表能适合各种不同介质流量测量。相对而言，在流量检测中，节流式差压流量计的应用最广，20世纪90年代末，世界范围内的各种节流式差压流量计的销售量在流量计台数总量中约占50％～60％。随     

N-半胱氨酰基-1,3,4,6-四-O-乙酰基-β-D-氨基葡萄糖的合成研究

以2-氨基-β-D-葡萄糖盐酸盐为起始原料,与苯甲醛反应得到氨基保护的中间体苯甲醛缩-β-D-氨基葡萄糖(1),1以乙酸酐-吡啶乙酰化、盐酸-乙酸乙酯溶液脱去氨基保护基合成重要中间体2-氨基-1,3,4,6-四-O-乙酰基-β-D-葡萄糖盐酸盐(2)。2与保护氨基酸Boc-Cys(CH2-U)-OH在缩合剂DIC/HOBt/DIEA的作用下偶联,合成目标产物N-(N-叔丁氧羰基-S-5'-尿嘧啶甲基半胱氨酰基)-1,3,4,6-四-O-乙酰基-β-D-氨基葡萄糖(3)的合成3,总收率为40.0%。产物结构经1HNMR、MS、IR得以确证。     

Windows Rootkit分析与检测综合方法

分析了已知的Rootkit检测方法,并根据上述检测方法提出了一种基于采用比较核心模块查证内存代码段的完整性和检测隐藏驱动的方法.该方法能够检测大部分应用层Rootkit和内核Rootkit.     

喷涂工艺条件对超音速火焰喷涂制备Cr3C2-NiCr涂层及耐磨、耐蚀性能研究

为了研究通过超音速火焰喷涂不同工艺下制备的 Cr3C2-NiCr 涂层的耐磨和耐腐蚀性能, 利用 HVOF 在 P92 钢基体表面通过不同工艺制备出 Cr3C2-NiCr 涂层, 并通过电子显微镜 (SEM) 和 X 射线衍射 (XRD) 分析涂层 的微观组织形貌和物相组成。 通过电化学工作站对不同工艺下的涂层样品以及 P92 钢基体进行测试, 探索各样品 在 0.5% H2SO4 溶液中的耐腐蚀性能。 通过磨擦磨损试验机测试各涂层的耐摩擦磨损性能, 并通过激光共聚焦得 到各样品的三维形貌和表面轮廓图。 结果表明, 影响涂层硬度的主要因素是涂层中存在的碳化物硬质相颗粒, 不 同工艺得到的涂层内部的硬质相颗粒分布不同。 在喷距 380 mm, O2 流量 880 L/min, 煤油流量 23 L/h 时获得的 涂层硬度最高 (995 HV5), 磨损率会随涂层硬度的降低而升高, 因此在该工艺参数下的涂层耐磨性能最好。 由于 影响耐蚀性的主要因素为涂层孔隙率, 在电化学腐蚀实验中, 在喷距 380 mm, O2 流量 830 L/min, 煤油流量 23 L/h 时获得的涂层具有最低孔隙率 (1.21%), 腐蚀电流密度为 0.51μA?cm-2。 相比于 P92 钢基体, 腐蚀电流密度减 小约 3 个数量级。     

存在特权集的代理门限群签名方案

在Schnorr代理签名的基础上,结合存在特权集的门限群签名,提出了两个存在特权集的代理群签名方案。它们具有门限群签名的特点,同时实现了不同代理人的不等代理权限功能。基于离散对数假设,对这两个代理门限群签名方案进行了安全分析。     

曙一区新井投产过程管理法摸索与应用

通过分析新井投产过程,找出影响开采过程原因,形成有效的管理方法,应用到实际生产过程中,取得可持续应用效果。     

原子层沉积Al2O3 保护层氢终端金刚石MISFETs的电学特性

研究了Zr-Si-N氢终端金刚石（H-diamond）绝缘栅场效应晶体管（MISFET）在有无Al₂O₃保护层情况下的电学特性。分别采用原子层沉积法（ALD）和射频溅射法（RF）制备了Al₂O₃保护层和Zr-Si-N栅介质层。MISFETs的转移特性曲线表明,其栅阈值电压在有无Al₂O₃保护的情况下从-2.5 V变化到3 V,表明器件从常关型转换为常开型。输出和转移特性曲线揭示了氧化铝的存在保护了氢终端,使其免受磁控溅射过程的损伤。     

纳米二氧化锆对TC4钛合金微弧氧化膜的影响

利用多功能微弧氧化电源,采用目前工艺较为成熟和应用最广泛的电参数对TC4钛合金进行微弧氧化,并在电解液中添加不同浓度的纳米二氧化锆,对比微弧氧化膜层的微观形貌和综合力学性能,探究纳米二氧化锆对膜层的影响。实验结果表明,随着纳米二氧化锆浓度的增加,膜层厚度几乎不发生变化,但膜层的成分和含量发生改变：膜层中出现板钛矿相,且含量不断增加。当纳米二氧化锆浓度为2 g/L时,膜层的粗糙度相比未添加纳米二氧化锆时大幅下降,膜层耐磨性能最好,且此时膜层表面微孔直径最小且尺寸均匀,耐腐蚀性能最佳。