闭路湿磨分级设备进展

总结了近年来闭路湿磨分级设备设计、制造、应用和发展状况,探讨研究发展方向.     

设备可靠运行的保护神——高精过滤技术及其在现代制造业领域的应用

近几年来,随着主动预防性维修策略在制造业的推进,设计及现场工程技术人员越来越认识到消除设备故障的根源性参数,比如过热过载、流体泄漏、流体污染,可大幅度地减少设备故障,降低运行成本,提高设备可靠性。高精过滤技术逐渐在这一领域显示出极大优势。     

科佳水电站自动发电和电压控制

介绍了马其顿科佳水电站计算机监控系统与马其顿国家调度中心的通信、自动发电控制和自动电压控制功能。阐述了实现远方控制和远方调节时，采取的技术方案和特点以及现场应用情况。有些实现方法与国内不同，有些特点有一定借鉴之处。     

从光电子谱的峰背比及背景信号变化获得成分深度分布信息

光电子谱中的背景信号包含样品的信息，但过去往往被忽略，通过对背景信号简单的分析，可以获得成分随深度变化的信息，本文介绍了如何利用光电子谱的背景信号获得元素在深度方向的分布情况，本文所述方法可以用于纳米镀嵌结构，包裹物，表面偏析，氧化，钝化等体系的非破坏性深度剖析研究。     

析氢电催化剂Ni—Mo—Pb合金的研究

用电沉积法得到了非晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐｂ合金，该事金在碱性溶液中对氢的阴极析出具有很好的电催化活性，并有良好的可逆性和稳定性。给出了Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐｂ电极上析氢反应的有关动力学参数。用稳态极化测量和ＸＲＤ对Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐｂ电催化剂进行了表征。     

真空蒸发沉积18烷基取代螺吡喃薄膜的光致变色及光电子谱研究

利用真空蒸发的方法在玻璃载片上沉积了18烷基取代螺吡喃薄膜，并利用光吸收谱和光电子谱研究薄膜的光致变色特性及变色前后分子结构的变化情况。实验结果发现，真空蒸发沉积的18烷基取代螺吡喃薄膜具有良好的光致变色性能，在紫外光的照射下可以发生明显的光致变色反映。光电子谱分析：经紫外线照射后，N1s、O1s光电子峰发生明显的变化 ，说明经紫外线照射后分子结构发生了变化，导致分子内部电荷的重新分布。另外紫外线照射后氧含量增加，这是因为紫外线照射后薄膜表面对水汽的吸附能力增加所致。