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从基尔霍夫定律和光学薄膜理论出发,利用光学设计软件Macleod,尝试了在铝基上镀单层和多层光学膜系,以满足辐射制冷的要求。选择了合适的膜层材料,在全波段高反射铝基底上设计了单层和多层膜系,运用单纯形法(Simplex)优化了膜层,得到了最优的多层膜结构。膜系的光谱曲线显示,在8～13μm波段具有高的发射率,其余波段具有高的反射率,并且在大的辐射方向角范围(0°～60°)具有稳定的光学性能。最后选取法线方向进行数值积分,取辐射体温度为300K时,最优膜系在8～13μm波段的辐射功率为123.7W/m~2,平均发射率为0.836。光学薄膜方法为选择性辐射体的设计提供了理论指导。 相似文献
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