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一、前言众所周知,在掩模制造技术中,常规的光学方法制作主掩模流程如图且(a)所示,制作一块主掩模需用版材两块。电子束制作主掩模的流程如图1(b)所示,制作一块主掩模只用版材一块。比较图亚(a)和(b),可清楚地看到,(a)的制作流程长,费时且费料,(b)的制作流程短,节省材料,降低成本。凶!主掩模制作流程图随着集成电路规模的不断增大,芯片面积越来越大,有些已超出了精缩机的视场范围,精缩机的视场是100mmX100mm,用光学方法制作主掩模已不能完全满足用户的需要。由于以上种种原因,研究开发采用电子束设备(简称*B… 相似文献
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本文主要阐述研制微米/亚微米测试校正版的意义,在研制过程中解决电子束邻近效应、拼接校正、等离子刻蚀、测试技术等几个关键技术问题。完成了多功能、大范围、高精度、边缘较好的微米/亚微米测试校正版。通过测试、分析可以应用于各单位的条宽测量仪器的校正,解决了CD尺寸测试中存在的系统误差问题。这项技术对我公司以及外协单位条宽测试仪的CD尺寸值统一有着重大意义。 相似文献
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30 t桥式起重机主钩电机烧毁原因分析 总被引:1,自引:0,他引:1
30t桥式起重机主钩电机烧毁,经分析确认是由于工作制改变、负荷改变后对电机功率未进行校核.运行中超负荷所致。 相似文献
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