高稳定度电子束透镜系统电源的研制技术综述

本文介绍了为我室新型电子束主机研制的高稳定度透镜系统电源。该透镜系统电源在关键技术的处理上,采用了精密稳压管零温度系数工作电流的检测方法、研制出温度互补的基准电压发生器,使用了高增益、低漂移的运算放大器功能块,并应用热管技术研制出精密取样电阻器及整机采用了屏蔽浮地措施等,使该透镜系统电源取得了较高的技术指标,特别是系统的Ⅲ物镜电源的长时间稳定度达到7×10~(-6)/8小时的指标。 该系统电源的长时间稳定度指标优于英国剑桥科仪公司1981年研制的EBMF—6.5型电子束机的物镜电源指标。     

电子束偏放电路的计算机辅助设计

本文介绍了应用现行的ＰＳＰＩＣＥＶ５．０软件和ＣＡＤ优化技术，对亚微米电子束曝光机高速偏放电路的ＶＭＯＳＦＥＴ参数进行处理。针对电路中的关键参数：导通电阻、开关速度、温度影响、灵敏度及噪声干扰进行分析、设计。     

高速偏放系统噪声抑制技术的研究

为使亚微米电子束曝光机的高速偏放系统寻址率达到6 MHz,噪声小于200μV的技术指标,从偏转放大器的设计、信号传输、D/A转换和系统的屏蔽、隔离等几方面考虑,对噪声的产生进行分析研究,采取相应的处理措施、实现机制及实验结果,提出了具体的噪声抑制技术解决方法.进而可使整机系统的技术指标得到很好的提高和改进.这项研究对今后该项目的研制有一定的参考意义.     

正交图形簇畸变的校正研究及计算机仿真处理

论述了电子束扫描正交图形簇产生畸变的非线性校正过程,通过几种典型的图形分析研究,推导出有关的校正函数,并运用计算机进行了该畸变图形的仿真处理及验证。     

电磁场校正的子域变换和畸变速率补偿法

应用子域变换导出场的畸变函数，并给出畸变速率补偿法，以提高校正函数的逼近程度。     

应用热管技术研制的精密采样电阻器

一、引言本文介绍的精密采样电阻器,是为电子束曝光机镜筒光路系统透镜电源研制的,透镜电源稳定度的高低,对电子束光路系统束点的稳定性和再现性,同样起着重要的作用;而透镜电源本身的稳定度要求在10~(-5)以上,精密采样电阻器的精度就要求达到100~(-5)数量级,当然这样高精度的采样电阻器亦可用于其它高稳定度电源。通过本采样电阻的工作电流一般在0.5～1A之间,并可适当调整,电阻器要求长时间的连续使用,而且本身的稳定度不大于3×10~(-6)v的数量级,要做到这些是有很大的困难的。对于透镜电源精密采样电阻器的处理方法是很多的,如有的用变压器油散热,油箱恒温;有的电阻基体采用螺旋管式中间通自来水冷却散热,然后再浸入油箱里恒温处理;还有的采用风冷等,这些所采取的各式各样的媒质散热的控温方法,都有着共同的弱点:结构复杂,使用不方便,从已达到的效果来看,是不很理想。