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1.
热模压成形技术中的脱模研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过有限元模拟热模压成形中的脱模过程,分析了一般脱模工艺造成图形缺陷的原因;通过优化脱模工艺过程,采用低表面能的聚四氟乙烯作为抗粘剂,减小脱模时的摩擦,获得了高质量的模压复制品.  相似文献   
2.
在直拉法晶体生长中,通过对直径控制数学模型及热交换平衡机理的研究,本文提出了一种新型的自动控径生长晶体系统——采样串接自动调节系统.该系统利用电子称重技术,测取晶体质量生长速率作为主控信号,以炉膛温度作为付控信号,采取断续调节方式,逐步校正直径偏差.该系统能有效地克服晶体直径对加热功率的响应存在较大纯滞后和较长的热时间常数,在封闭了观察孔的电阻加热法单晶炉中,成功地实现了LN晶体从引晶开始直到生长结束的自动控径生长.  相似文献   
3.
阜宁县属淮河下游平原农业与湿地生态亚区,生态秉赋独特。作为传统农业大县,面源污染风险较大,水生态文明建设面临挑战。笔者结合阜宁水资源开发利用现状,对水生态文明建设目标、主要任务、建设的途径与成效进行了分析,为进一步提升水生态文明建设水平和层次理清了思路。  相似文献   
4.
通过对一次三相电源插头内部特殊短路事故的现场复原和相关电器的测试,对插头绝缘材料、结构以及操作过程进行了分析,总结了短路产生的原因,提出了在电工技能训练中避免此类事故再次发生的措施.  相似文献   
5.
研究了PMMA热压键合工艺,测量了PMMA的键合强度,利用扫描电镜检测了键合后微流体管道的结构变化,讨论了键合温度、键合压力等因素对键合强度的影响;给出了热压键合的合理工艺参数范围.结果表明,经过参数优化后的热压键合法可以满足PMMA微流体器件对键合的需求.  相似文献   
6.
一种PMMA表面改性的热压键合方法研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了一种基于表面改性技术的PMMA热压键合新方法。PMMA表面首先用其单体MMA进行改性,然后在真空热压设备中热压键合。主要的键合参数如下:键合压力0.5MPa~2.5MPa,温度88℃~100℃,时间180s。通过拉力法测量了键合强度,其最大值可达到0.15MPa。实验结果表明,与常规的热压键合方法相比,该方法可有效地降低键合温度,减少键合时间,提高键合强度,从而可减少对PMMA基片上微细图形结构的破坏。使用聚合物的单体(MMA)对PMMA进行改性,可避免对微管道产生化学污染,有利于集成毛细管电泳的生化分析。利用品红和氢氧化钠混合溶液对键合后的微流体芯片进行密封性测试,结果表明,封装后的微流体芯片没有出现泄漏的情况。  相似文献   
7.
齐鲁乙烯污水处理场主要担负45万t乙烯装置生产、生活污水以及第二化肥厂甲醇和丁辛醇装置的生产污水的处理任务,日处理能力4.2万m3.为减少恶臭污染,污水处理场的事故污水池、匀质调节池、氧曝池均设计为密闭型,但由于生产条件所限,其进水格栅、预沉池、隔油池、二沉池、接触氧化池、污泥浓缩池、污泥贮槽、污泥棚库均设计为敞开型,造成污水处理场工作环境恶劣,混合恶臭气体弥漫,尤以预处理和污泥脱水装置区最为突出,而上游生产装置工艺状况波动,事故污水冲击污水处理场时最为恶劣,严重影响员工身体健康.……  相似文献   
8.
直拉法晶体生长的自动控径方法,国内外已有不少报导。熔体称量法是常用的一种。有关文献指出,晶体直径对单晶炉加热功率的响应,存在着不可忽略的死区纯滞后和较长的热时间常数,这在电阻加热单晶炉及大型单晶炉中尤为严重。而目前的自动控径系统多属简单回路调节系统或前馈调节系统,长出的晶体虽然宏观等径,显微生长速率却发生较大的起伏。我们根据等径控制的实质问题在于控制晶体显微生长速率的理论,建立了采样串接调节系统,有效地克服了单晶炉的纯  相似文献   
9.
Over-plating工艺过程的变网格数值模拟   总被引:1,自引:0,他引:1  
考察了over-plating工艺中不同线距、线宽条件下的电沉积规律。利用数值模拟方法对图形结构轮廓和电沉积速度之间的相互影响进行了分析,同时采用变网格方法来适应电沉积过程中结构轮廓的不断变化。数值模拟结果表明:当线距/线宽较大(>12)时,相邻图形的电沉积速度受到的影响很小,图形的横向和纵向的电沉积速度逐渐趋于一致;而当线距/线宽较小(<6)时,相邻电沉积图形之间相互影响显著,线距/线宽越小,纵向电沉积速度和横向电沉积速度之比越大,因此相邻电沉积图形中间区域可能产生空洞,从而出现电镀缺陷的情形。对于上述工艺缺陷,可以通过增加辅助导电层进行消除,实验结果表明效果良好。  相似文献   
10.
研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响.研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题.  相似文献   
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