0.4～1.1微米高透、3～15微米高反的宽光谱带分色滤光片的设计

本文利用金属膜具有高反射率的特点和可以进行诱增透的原理来设计并计算出0.4～1.1微米高透、3～15微米高反的宽光谱带分色滤光片所需要的膜系,并给出分光性能良好的分色滤光片的试验结果。     

我国IC产业进入大规模发展期

集成电路(IC) 作为当今信息时代的核心技术产品,其在国民经济建设、国防建设以及人类日常生活的重要性己经不言而谕。据有人统计,在当代国民经济“食物链”关系中,1～2元的集成电路产值可带动10元电子信息产品进而带动100元的国民经济产值。抓住集成电路产业,就能最有力地促进GDP的增长。在最近召开的“微电子论坛”会上,上海市经委常务副主任江上舟很有见地地说,IC很难搞,难搞的原因是:IC产业具有规模大、投资多、关联强、增长快、回报和风险高等显著特点。集成电路产业进入壁垒很高,尤     

成长的五年

什么是引导电子工业发展的“龙头”?很多人都会毫不犹豫地回答:设计。所谓一代设计,一代产品说的就是这个道理。为推动这个“龙头”先行一步,五年前的今天,我国第一本专门为电子设计业服务的杂志——《电子设计技术EDN China》,沐浴着改革开放的金风破土而出了。     

透可见、反红外宽带分色滤光片的设计

本文用金属膜具有高反射特性同时又可以进行诱增透的原理,设计了透可见、反红外宽带分色滤光片所需要的实际组合膜系——|介质|金属|介质|组合膜系。并给出分色片的实验结果:可见区的透过率为80～88%,中、远红外区的反射率为90%。     

红外高折射率基体材料3～5微米宽带增透膜

一目前,红外光谱区用的窗口或衬底材料大部分都是些半导体材料,如锗、硅、砷化钢和锑化铟等单晶材料。它们对不同的红外区域有一定的透明性。但这些材料的折射率都较高,如锗单晶n=4,硅单晶n=3.45。这样,如果它们在空气中直接使用时,其反射损失是比较大的,或者说根本不能使用。为     

红外锗透镜8～12微米宽带增透膜的研制

一、镀制高效率宽带增透膜的重要性大家知道,光导体锗材料由于具有优良的光学、机械等性能而被选为红外前视透镜及一些红外长泼器件、整机的常用窗口材料。但由于锗的折射率高(N=4),根据T=2N/(N_2 1)=47％知道,未镀增透膜的锗镜,由于表面反射损失,其能量透过率只有47％。镜面愈多,反射损失愈大,相应的透过的能量就愈低。总透过率与透镜个数成乘方衰减,即     

新的世纪将给设计业带来新的机遇

当读者翻阅本期杂志的时候,二十一世纪的新曙光已经撒满了人间:新年的晨钟也已响彻了大地。在这新的世纪、新的一年刚刚来之际,我们编辑部全体同仁向各位读者拜年,祝各位读者在新的一年、新的世纪有新的业绩、新的作为!同时也感谢各位读者长期以来对本刊的热情的支持和执著的厚爱!     

集成电路的设计与制造模式变化带来的机遇和挑战

集成电路(IC)是整个电子信息产业乃至国民经济的基础。这已为国人所共识。然而,如何尽快发展我国集成电路产业,以迎接国际市场的挑战,这又是业界和有关人士最关心的,也是最迫切需要解决的问题。集成电路确实是发展太快了。到目前为止,还没有那门技术、那门工业门类能像集成电路那样的“日新月异”般“翻番”地发展。且不说集成技