竖直式HVPE反应系统的理论模拟与GaN厚膜生长

根据流体动力学模型,研究了反应气体在反应室内的浓度分布,以及反应室的温场分布.NH3浓度在衬底附近分布均匀,而GaCl浓度在衬底中心区域较大,周边较小.实验结果表明,外延层在中心区生长速率为260μm/h,周边为140/μm/h.X射线摇摆曲线半高宽为141".O杂质的引入,使得样品具有较强的黄光发射.     

ZnAl2O4缓冲层对ZnO外延层晶体质量的影响

首次报道了通过引入ZnAl2O4缓冲层,以金属源化学气相外延法(MVPE)生长的ZnO晶体质量明显提高.ZnAl2O4缓冲层是通过对溶胶-凝胶法制备的ZnO薄膜进行高温退火而得到的.用双晶X射线衍射仪(DCXRD)对样品进行了θ-2θ和摇摆曲线测量,在ZnAl2O4缓冲层上生长的ZnO厚膜具有高度的择优取向性和良好的晶体质量(摇摆曲线半高宽为342").用电子扫描显微镜(SEM)观察样品横截面,并测得样品厚度约为10μm.     

数字电视广播条件接收系统测试方法解析

GD/J0303-2010《数字电视广播条件接收系统技术要求及测量方法》是数字条件接收系统进行入网检测的指导性文件,该检测方法较之前标准在测试环境及测试方法方面均进行了较大改变。本文中,作者根据实际工作经验,对数字电视广播条件接收系统测试进行了全面介绍并对其中难点进行了重点解析。     

使用ZnO电流扩展层提高GaN基LED提取效率

Gallium nitride （GaN） based light emitting diodes （LEDs） with a thick and high quality ZnO film as a current spreading layer grown by metal-source vapor phase epitaxy （MVPE） are fabricated successfully. Compared with GaN-based LEDs employing a Ni/Au or an indium tin oxide transparent current spreading layer, these LEDs show an enhancement of the external quantum efficiency of 93% and 35% at a forward current of 20 mA, respectively. The full width at half maximum of the ZnO （002） ω-scan rocking curve is 93 arcsec, which corresponds to a high crystal quality of the ZnO film. Optical microscopy and atomic force microscopy are used to observe the surface morphology of the ZnO film, and many regular hexagonal features are found. A spectrophotometer is used to study the different absorption properties between the ZnO film and the indium tin oxide film of the GaN LED. The mechanisms of the extraction quantum efficiency increase and the series resistance change of the GaN-based LEDs with ZnO transparent current spreading layers are analyzed.     

Ga掺杂ZnO透明电极的研究

An 8 μ m thick Ga-doped ZnO (GZO) film grown by metal-source vapor phase epitaxy was deposited on a GaN-based light-emitting diode (LED) to substitute for the conventional ITO as a transparent conduct layer (TCL). Electroluminescence spectra exhibited that the intensity value of LED emission with a GZO TCL is markedly improved by 23.6% as compared to an LED with an ITO TCL at 20 mA. In addition, the forward voltage of the LED with a GZO TCL at 20 mA is higher than that of the conventional LED. To investigate the reason for the increase of the forward voltage, X-ray photoelectron spectroscopy was performed to analyze the interface properties of the GZO/p-GaN heterojunction. The large valence band offset (2.24± 0.21 eV) resulting from the formation of Ga₂O₃ in the GZO/p-GaN interface was attributed to the increase of the forward voltage.     

移动多媒体广播电视监测设备部署方法研究

移动多媒体广播电视作为新媒体既有同传统媒体的相通性又存在一定的特殊性。由于CMMB在大城市采用多点单频网发射,这样就对发射机监测造成了一定的难度,而且CMMB接收未采用有效的安全防范机制,这样就对非法干扰的监测带来了前所未有的挑战。本文提出对CMMB监测设备部署方式的一些观点,为CMMB监测网的建设提供了一些参考。     

厚度对Si衬底上生长的ZnO薄膜性能的影响

采用金属有机化学气相沉积方法,在Si(100)衬底上生长出具有高度C轴择优取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射、原子力显微镜和室温光致发光谱研究了厚度对ZnO薄膜的结构、表面和光学性能的影响.X射线衍射图显示ZnO薄膜只有单一的(0002)峰,具有高度择优取向.AFM和PL测试表明,在取样薄膜厚度范围内,薄膜的表面质量和发光性能没有随着薄膜厚度的增加而提高.这是因为薄膜在厚度增加的生长过程中,生长模型变化且晶粒增大.     

竖直式HVPE反应系统的理论模拟与GaN厚膜生长

根据流体动力学模型,研究了反应气体在反应室内的浓度分布,以及反应室的温场分布.NH3浓度在衬底附近分布均匀,而GaCl浓度在衬底中心区域较大,周边较小.实验结果表明,外延层在中心区生长速率为260μm/h,周边为140/μm/h.X射线摇摆曲线半高宽为141".O杂质的引入,使得样品具有较强的黄光发射.     

浅析广播电视信息系统的安全保护段

随着广播电视信息化程度的提高,各信息系统安全性问题已经成为各大制作、播出及管理单位关注的焦点,怎样对系统进行加固是摆在各管理者及网络维护人员面前的重要课题。本文中,作者从网络、设备、应用等多方面对影响信息安全的因素进行了解析。     

m面蓝宝石衬底上ZnO外延薄膜的性能

采用自行研制的CVD设备在m面蓝宝石衬底上成功生长了微米级的ZnO外延薄膜.采用X射线衍射(XRD)和双晶X射线摇摆曲线(DXRD)研究了所生长ZnO薄膜的结构特征.利用扫描电子显微镜(SEM)观测了ZnO样品的截面,并测得其厚度.同时利用室温光致发光(PL)谱及霍尔(Hall)测试研究了ZnO外延薄膜的光学性质和电学性质.