大角度离子注入机控制系统的研制

介绍了大角度离子注入机控制系统的功能,重点介绍了系统的总体设计和控制模块的设计、主控计算机与子控制器之间的通讯以及控制系统的软件结构设计等。经实验证明,该控制系统稳定、可靠。     

大角度离子注入机中的颗粒污染

针对大角度离子注入机中的颗粒污染进行了分析和探讨,着重描叙了颗粒的产生,对注入掺杂的影响;介绍了颗粒的测量和监控;重点列出了如何从设计上减少颗粒污染的产生途径以及生产设备怎样预防颗粒污染。     

大角度离子注入机的束纯度控制

从大角度离子注入机束线系统设计上的改进出发,对加/减速模式和多电荷注入等情况下的束能量纯度控制进行了阐叙,同时依靠大量的实验,从SIMS的实验数据来验证控制设计的合理性和有效性.     

大角度离子注入机的束流自动调节

阐述了大角度离子注入机的束流自动调节,着重描述了新建立菜单的第一次调束,从束流的引出到固定法拉第杯获得目标束流的具体调节步骤,包括束流的均匀性检测的全部过程,另外对调束过程中的一些算法也进行了细致的介绍。     

离子注入剂量的均匀性检测和校正

介绍了离子注入机中注入剂量的均匀性检测和校正,着重阐述了均匀性的检测原理、均匀性计算公式、均匀性检测和校正流程及算法。     

离子注入机金属铝离子源的气源的优选

注铝离子注入机,是宽禁带半导体SiC产业的关键设备,金属铝离子源直接影响了整机的性能指标,特别是PM周期和离子源寿命.为保证离子源的长寿命和铝离子大束流,针对金属铝离子源放电的辅助气源进行了一系列的研究和实验,包括铝离子产额、束流质谱、阴极使用寿命及污染导致的放电打火情况等,通过实验结果筛选出最佳的气源.     

混合扫描式旋转靶离子注入机剂量控制系统

为了进一步提升旋转靶离子注入机的设备产能,提出了一种基于混合扫描式旋转靶离子注入机剂量控制系统;论述了该旋转靶离子注入机剂量控制系统设计思路、工作原理及控制离子束按设定的剂量精确均匀地注入到晶片表面的实现方法。介绍了该剂量控制系统硬件组成,并描述了剂量控制系统的核心部件剂量积分仪的详细硬件设计方案。基于该剂量控制系统的旋转靶离子注入机已批量交付客户使用,注入均匀性和重复性均达到1%以内。