对我国集成电路产业“九五”发展策略的探讨

通过对３０年来我国集成电路产业发展状况的考察，分析了我国集成电路产业落后的几点原因，最后对集成电路产业“九五”发展策略进行了探讨，对我国集成电路产业发展提出了建议。     

干法刻蚀设备中真空系统的相关问题

讨论了干法刻蚀设备真空系统中水汽／氧等残余气体的危害，反应室真空系统工作压强的精确控制以及真空排气系统的几个问题。结合作者从事刻蚀工艺实践，对这些问题进行了定性分析，并探讨了解决这些问题的可行方案。     

抗蚀剂的干法显影技术研究

在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影（等离子体显影）已展示实现的可能性，一方面开发了能够干显影的抗蚀剂，另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术和技术动向，也介绍了我们所做的有关工作。     

我国MCM技术发展研究

我国ＭＣＭ技术发展研究电子工业部第四十七研究所管会一、发展背景多芯片组件（英文缩写为ＭＣＭ），是指一种由多个相同或不同类型集成电路（ＩＣ）裸芯片互连在同一块多层布线的高密度衬底上，并封装在同一管壳中所形成的能完成一定功能的组件型模块结构。随着微电子技...     

未来半导体加工厂的新技术模式——MMST

ＭＭＳＴ代表了一种新的半导体晶片加工概念，具有对环境净化条件要求不高、加工周期短、加工成本低、自动化程度高等优点，有望成为未来半导体加工厂的新技术模式。本文试图对ＭＭＳＴ技术作一较全面的介绍。