基于液相掺杂的低损耗近等厚芯层掺稀土光纤

过高的纤芯损耗和纤芯折射率非均匀性严重制约了掺稀土光纤在高功率光纤激光器中的应用,提出一种基于液相掺杂的低损耗近等厚芯层掺稀土光纤的工艺方法.结合改良的化学气相沉积(MCVD)溶液掺杂法制备了含有多层疏松层的掺稀土光纤预制棒,理论分析了光纤预制棒缩棒前、后芯层差的变化原理,采用流量递减沉积工艺降低了缩棒后不同芯层之间的...     

国产25/400 μm掺镱光纤实现3.2 kW激光输出

利用改进的化学气相沉积工艺结合溶液掺杂技术制备了高光束质量的25/400 m双包层掺镱光纤。石英纤芯的掺杂组分为Yb2O3、Al2O3、P2O5,Al2O3有助于降低Yb3+团簇,增加Yb3+掺杂浓度,P2O5起到降低光子暗化效应的作用。纤芯-包层折射率差为0.001 2,纤芯的数值孔径为0.06。976 nm波长处的包层吸收系数为2.1 dB/m。构建双向抽运方式的主控振荡器功率放大器结构对增益光纤性能进行测试。实验中,1 080 nm种子光功率为235 W,在抽运光总功率为3 706 W时,实现了最大功率3 243 W激光输出,斜效率为81.1%,光束质量因子为1.7,未发生受激拉曼散射现象。光纤激光器连续工作1 h,输出功率未见明显变化。采用相同测试方法及平台对25/400 m型号的进口光纤进行测试,对比实验结果表明:实验中制备的双包层掺镱光纤主要性能指标已接近进口光纤。     

国产化的掺Yb3+双包层光纤激光器研制成功

掺Yb3 + 双包层光纤激光器可提供波长在 1μm附近的大功率激光输出 ,在Raman放大器、空间光通讯、工业加工等诸多领域具有重要的应用前景。我们采用自行研制的、内包层截面为D形和矩形的掺Yb3 + 双包层光纤和国产的抽运光源、能量耦合系统 ,制成了全国产化的双包层光纤激光器。以MCVD工艺加溶液掺杂技术成功研制出高质量的D形和矩形掺Yb3 + 石英双包层光纤 ,主要技术参数如下 :D形光纤内包层直径 4 0 0 μm ,直边长约2 6 0 μm ;矩形内包层尺寸为 35 0 μm× 175 μm。两种光纤内包层的数值孔径～ 0 36 ,双层光固化保护涂层 ,外径 5 7…     

长波长细径保偏光纤的制作

通过介绍长波长熊猫型细径保偏光纤的制作工艺过程.分析细径保偏光纤制作的技术难点,初步解决了细径保偏光纤制作工艺中的问题,制作出了长波长熊猫型细径保偏光纤样品.所制作的保偏光纤在1550nm波长下损耗小于1dB/km,偏振串音达到近-28dB/km.     

国产两万瓦级同带泵浦掺镱双包层光纤

同带泵浦是目前实现高功率光纤激光器的主要技术之一。报道了一种自主研制的同带泵浦掺镱双包层光纤,采用改进的化学气相沉积工艺结合液相掺杂工艺,通过纤芯组分设计和制棒工艺优化,提高了高掺杂光纤纤芯折射率的均匀性。基于所研制的47μm/400μm光纤搭建了全光纤化主振荡功率放大器,采用同带泵浦方式,实现了高受激拉曼散射(SRS)抑制比的20.88 k W激光输出,中心波长为1080 nm,斜率效率为82.7%。这是目前国产光纤以同带泵浦方式实现的最高功率。     

掺铥光纤纤芯掺杂浓度与吸收系数实验研究

以掺铥双包层光纤为例,主要介绍了用高温气相掺杂工艺制备高掺铥双包层光纤的工艺原理和工艺过程,对不同料路温度下铥的掺杂浓度进行了研究,重点研究了纤芯掺杂浓度与吸收系数的关系,通过研究找到了相关规律,为采用高温气相掺杂工艺制备高掺铥双包层光纤提供了依据.     

掺镱双包层结构石英光纤的优化设计及制作

文章主要介绍了用MCVD工艺及溶液掺杂法制备掺Yb^3 双包层结构石英光纤的优化设计、原理及制作工艺，制作出Yb^3 掺杂浓度高(吸收损耗在976nm时为2～10dB／m)、本底损耗低(在1．3μm时为10dB／km)的掺Yb^3 双包层结构石英光纤。     

有源光纤脱水条件的优化

以掺镱双包层光纤为例,通过用MCVD工艺结合溶液掺杂法制备掺稀土离子有源光纤过程中,对疏松层脱水条件和脱水成分的研究,给出了脱水条件对有源光纤本底损耗的影响规律。通过优化脱水条件,降低了光纤的本底损耗。     

铒镱共掺双包层光纤的研究

文中主要介绍了用MCVD工艺结合溶液掺杂技术制备铒镱共掺双包层光纤的设计、制作及性能.通过铒镱掺杂浓度的对比实验以及制备工艺的改进,找到了合适的铒镱掺杂浓度比,提高了铒镱掺杂浓度,有效防止了预制棒芯部的凹陷,最终制作出铒镱掺杂浓度高(吸收系数≥2dB/m)(976nm)、内包层形状为D形的铒镱共掺双包层光纤.     

高温气相掺杂法制备高掺铥石英光纤

介绍了用高温气相掺杂技术制备高掺铥双包层光纤的原理及制备工艺。通过料路温度与掺杂浓度的对比实验,以及对该新制备工艺的研究完善,找到了合适的料路温度,提高了铥的掺杂浓度和掺杂浓度的均匀性,新工艺有效消除了预制棒芯部的凹陷,降低了光纤的本底损耗,最终制作出掺杂浓度高(≥0.6%)、内包层形状为D形的高性能的掺铥双包层光纤。