氦镉激光管中氦气的清除

本文在实验中证实了氦镉激光功率下降的主要原因是氦气的清除．发现阴极溅射是气体清除的主要原因。用了十来种阴极作了寿命实验，发现经一定处理工艺的钽和钼的溅射较小，吸收也较小。本文报导了寿命为1000小时输出为50毫瓦的大功率氦镉激光器，加了不均匀磁场后输出为100毫瓦。     

XeCl准分子激光泵浦的二级放大染料激光特性

本文报道了用XeCl准分子激光泵浦Rh6G染料激光振荡放大系统。分别研究了一级、二级的染料激光放大系统，测量了一些参量特性，获得了线宽为0．01A，调谐范围为470A的激光输出。二级放大的转换效率约为9％。     

光纤激光器的谐振腔结构

光纤激光器是新近发展起来的将光纤技术与激光技术相结合的一种特殊激光器件.因而也出现一系列新的物理现象,如耦合、输出、谐振腔、谱结构、模式、调频、调Q、锁模以及Smith腔等.本文主要讨论光纤激光器的谐振腔结构,它可分四种类型:环形腔结构,藕合环反射器结构、双藕合器和块状结构.除了块状结构与常规激光器腔     

不均匀磁场中的氦镉激光

本文研究在不均匀磁场中He-Cd激光功率的增加。实验使用了二个器件。一是放电长度为140厘米的外腔结构的大功率He-Cd激光器;另一是放电长度为72厘米的内腔结构的器件。用永久磁铁产生不均匀磁场,每块磁铁长5.6cm。磁铁离毛细管轴8毫米,相互间隔2cm轴向排列。轴向及横向磁场峰值分别为100高斯及17高斯,呈周期性变化。磁场分布采用NS-SN-NS结构。管A在放电电流160mA及较高镉浓度时,不均匀磁场使4416A激光输出增加40％以上,达100毫瓦,而在阈值附近可增加100％以上。另外,也发现不均匀磁场使3250A激光增加更     

转动跃迁的气动激光

本文提出用气动方法使分子的转动态集居数反转,产生连续大功率输出的远红外激光的两个方案。     

放电泵浦染料蒸气三重态T_1的研究

本文对放电泵浦染料蒸气三重态T_1的影响和加入辅助气体与染料分子碰撞产生T_1→S_1再抽运(共振转移)进行了计算和讨论。     

新激光工作物质和新激光跃迁的研究结果

本文总结了采用轴向脉冲放电,对氮、氧、硫、氯、钛、溴和碘等七种元素的可见及紫外激光作用探索的结果,获得88条激光振荡谱线,其中33条为新激光谱线,并得到新的激光工作物质钛。最强的激光单线输出能量为50μJ,文中对脉冲激光的探索作了讨论。     

不均匀磁场中的氦-镉激光

本文报导氦-镉激光运转在不均匀磁场中,获得4416埃激光100毫瓦功率输出,比零磁场下增加40%以上.在阈值附近,功率增加达100%.3250埃激光功率增加更为明显.     

下一代二氧化碳激光雕刻机的探讨

介绍了第一代、代二代与第三代二氧化碳激光雕刻机的原理,并给出雕刻的图像以供对比.在回顾这三代激光除刻机的基础上,本文提出了新一代二氧化碳激光雕刻机的设想.     

激光化学沉积速率的饱和测定

本文报道在光解沉积钨膜和光致热分解沉积铂膜中观察到沉积速率随光强饱和现象。根据这一现象本文给出了测量光分解和光致热分解的饱和沉积速率的方法,也可由此得到非饱和的沉积速率。用吸收法测量的结果与之比较,两者相近。最后,对饱和法的误差及使用范围作了讨论。