对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析

本文在成熟使用电子束曝光机制作各种掩模版的基础上,针对评价掩模版质量的三大因素:图形尺寸精度、图形套准精度、芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩模版。     

高精度的反射电子定位技术

本文描述了一个利用数字信号增强技术来处理反射电子信号的电子束定位系统。用数字信号增强技术可以得到足以精确定位的信号噪声比。实验结果表明,带有这种定位系统的电子束曝光装置,能够得到0.1μm(2σ)的图形定位精度。