一种阵列天线的约束最优化综合方法

为同时满足对方向性系数,阵列效率,方向图旁瓣等参数的要求,提出了一种效率和旁瓣约束下的最优方向性综合法.该方法适用于任意的阵列形式,以最大化阵列方向性系数为目标,通过对加权向量的二次约束控制了阵列效率,并采用迭代的方法满足了方向图旁瓣的要求,实现了阵列效率和旁瓣约束下的方向性系数最优化.对多种阵列在不同要求下的仿真结果以及5元圆阵列的实验结果表明了这种方法的有效性和灵活性.     

碳化硅电子行业纯水生产工程实例

随着我国半导体行业的快速发展,碳化硅电子行业对纯水的使用要求越来越高.采用UF超滤系统+两级RO反渗透系统+EDI电除盐系统+离子交换系统+终端超滤系统的工艺制备生产所需纯水.其中,UF系统除去水中主要的大分子有机和无机悬浮物;RO系统进行脱盐处理;EDI装置进一步深度处理溶解离子;抛光树脂及终端过滤系统深度处理小分子...