不同工艺条件下Ni／Ti周期性多层膜界面粗糙度的研究

本文采用直流磁控溅射法制备了一系列Ni／Ti周期性多层膜,用X射线小角衍射进行周期结构分析。主要研究了不同的制备工艺条件下,Ni／Ti周期性多层膜周期厚度和界面粗糙度的变化规律,从而归纳出最佳的溅射工艺条件。研究发现采用移动模式制备出的多层膜,其周期厚度的均匀性以及界面粗糙度均优于固定模式;并且在移动模式下制备的多层膜其界面粗糙度,随基片架移动速率的增大而减小。