电铸金刚石-镍复合膜微观应力分析

用电铸方法，采用低应力电镀液，研制出了金刚石-金属复合膜。该复合膜的厚度为20-45μm，可用于制作超薄切割刀具。介绍了用X射线衍射法（xRD）测量多晶体微观应力的基本原理和用X射线衍射法测量镍多晶体显微应变的程序。用单波法计算了电铸金刚石-镍复合膜的显微应变，并用扫描电镜（SEM）观察了该复合膜的表面形貌。结果发现：阴极电流密度严重影响复合膜的显微应变，在实验所用电流密度范围内（0．6-3．5A／dm^2），随着电流密度的增加，显微应变减小。     

链状碳纳米管的制备及其场发射性能研究

本文是利用微波等离子体化学气相沉积的方法,在钛金属层上快速制备出由众多内部中空、外观呈锥形链状的碳纳米管组成的碳膜。通过扫描电镜、透射电镜、拉曼光谱等仪器分析了碳纳米管的组成。在真空条件下,测量了碳纳米管链薄膜的场电子发射特性。用热动力学过程解释了锥形碳纳米链的生长机理。     

碳氮纳米管薄膜及其场致电子发射特性

利用微波等离子体增强化学气相沉积技术,在玻璃衬底上600℃～650℃的低温下制备出了碳氮纳米管薄膜,氮含量为12％,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子谱(XPS)和Raman光谱等测试手段对所制备薄膜的表面形貌、微结构和成分进行了分析,并研究了其场致电子发射特性,阈值电场为3．7V／μm。当电场为8V／μm时,电流密度为413．3μA／cm^2,实验表明该薄膜具有优异的场发射性能,而且用这种方法制备的薄膜将大大简化平板显示器件的制作工艺。     

有机电致发光的研究进展及展望

对有机电致发光(OLEDs)的研究进展进行了综述。内容包括:有机电致发光器件的阴、阳极材料、电极修饰、发光材料、发光效率、新的器件结构以及驱动电路的研究现状。剖析了该领域的研究热点,并展望了其发展应用前景。     

若丹明6G分子反斯托克斯荧光温度效应

用２０毫瓦氦氖器作为激发光源，研究了若丹明６Ｇ水溶液反斯托克斯荧光谱。反斯长克斯荧光强度随溶液温度有强烈依赖关系。当温度由２３℃升高到４３℃时，反斯托克斯荧光强度增加三倍。根据热平衡分布规律讨论了反斯托克斯荧光强度与温度的依赖关系。     

地下金属管线管径的探测

用现有的一台电磁感应式地下金属管线探测仪在现场进行人工数据采样,然后拟合出一个地下金属单管线二次场分布的经验公式,再用该分布函数曲线半宽度参数,伴以地下全属管线埋深的探测,便可探测出管径值,探测误差约为实际管径的10％。     

碳纳米管薄膜的低温制备及其场发射性能的研究

利用电镀方法在覆盖有金属Ti的玻璃衬底上制备了Ni催化剂,采用微波等离子体化学气相沉积技术,以CH4和H2为反应气体,在450℃的低温下制备了CNTs薄膜.利用扫描电子显微镜和Raman光谱对其表面形貌和结构进行了分析,在真空度小于2×10-4 Pa的环境中测试了CNTs薄膜的场致电子发射特性,开启电场2.7 V/μm.研究表明微波等离子体化学气相沉积技术低温制备CNTs薄膜是可行的,且该薄膜具有良好的场发射性能.     

WC-Co硬质合金基体上高附着力金刚石薄膜的制备

采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在WC-Co硬质合金基体上制备金刚石膜, 研究了TiN_x中间层的引入对金刚石薄膜质量及其附着性能的影响. 结果表明, 在酸浸蚀脱钴处理的基础上, 通过预沉积氮含量呈梯度变化的TiN_x中间过渡层, 可在硬质合金基体上制备出高质量的金刚石薄膜; 压痕法测试其临界载荷达1000N.     

能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究

采用磁控溅射(DMS)和能量过滤磁控溅射(EFDMS)技术在玻璃衬底上制备ITO透明导电薄膜。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻仪、椭偏光谱仪等对薄膜的性能进行表征和分析,初步探讨了EFDMS技术的成膜机理。研究发现与DMS技术相比,EFDMS技术可有效降低薄膜的表面粗糙度,并且薄膜光电性能有一定改善。     

ZnO薄膜发光特性的研究进展

ZnO薄膜具有压电、光电、压敏、气敏、发光等多种特性,应用极为广泛。针对ZnO薄膜的发光特性,对ZnO薄膜的制备、影响其发光特性的因素及其发光机理的研究进展进行了综述。