排序方式: 共有164条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
3.
4.
5.
本文研究了采用锁定放大相干检测技术的等离子体光发射谱检测系统。用该系统检测了仅用CF4作为刻蚀气体刻蚀非晶硅基薄膜的等离子体光发射谱。分析了检测结果和刻蚀机理。 相似文献
6.
7.
8.
9.
10.
本文从a-Si:H的材料特性出发,采用更为精确的a-Si:H带隙态分布模型计算了a-Si:HCCD的转移特性,得出了a-Si:H材料参数对a-Si:HCCD的动态性影响的数值分析结果,理论结果表明,a-Si:H材料带隙中局域态分布对a-Si:HCCD的转移特性有非常大的影响,而且在高频下,a-Si:H中的带尾态对a-Si:HCCD转移特性的影响比深局域态要大。 相似文献