采用改进型多弧离子镀膜设备镀制装饰膜层的研究

针对目前国内多弧离子镀膜领域存在的智能化水平不高和大颗粒污染问题,我们通过设备改进,增加了可编程逻辑控制器和磁过滤器.以装饰镀膜中常用的二氧化钛膜为研究对象,对比了设备改进前后膜层的性能.X射线衍射测试表明所制备的二氧化钛膜层为金红石相.改进后的设备制备的膜层基本看不到大颗粒的存在,且膜层的绿色更加鲜艳.同时,由于设备的智能化水平提高,使得产品的性能非常稳定,随机抽取的5个样品不论从外观看还是通过反射率测试,性能几乎一样.     

多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究

本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了Ti N/Si O2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射Si O2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30 min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1 h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。