单电源低电压InGaP/InGaAsPHEMT低噪声单片放大器

制备了增强型ＩｎＧａＰ／ＩｎＧａＡｓ ＰＨＥＭＴ器件结构、阈值控制以及单电源低电压低噪声单片放大器。获得了阈值电压接近０Ｖ的增强型ＩｎＧａＰ／ＩｎＧａＡｓ ＰＨＥＭＴ器件,并在此基础上设计制作了可在１．５￣３Ｖ低电压和单电源下工作的２．５ＧＨｚ低噪声单片放大器。同时对该电路性能的进一步提高进行了模拟分析。     

RF Plasma MBE生长GaN材料及特性研究

用ＲＦＰｌａｓｍａ ＭＢＥ方法生长出了ＧａＮ 材料,它的Ｘ 射线衍射半峰宽为３３５ 秒,７７Ｋ 下ＰＬ发光峰半峰宽为２２ｍｅＶ,表明了材料具有较高的晶体质量。根据Ｘ射线衍射分析,位错密度约为７ ．３ ×１０８ｃｍ －２ 。用Ｓｉ 作为掺杂剂,所得载流子浓度可覆盖１０１７ － １０１９ｃｍ －３ 的范围。掺Ｓｉ ＧａＮ 的ＰＬ谱表明,Ｓｉ 的引入可提高材料的发光效率。     

异质外延错向角的X射线精确测量方法

通过分析外延层与衬底之间存在错向角时的衍射圆锥，利用简明的衍射几何关系提出了一个测量外延层在衬底之间错向角的方法及相应的计算错向角的公式，同时提出了检验办法，设计了一个有两外延层的ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＡｌＡｓ／ＩｎＰ样品，用高精度ｘ射线四晶衍射仪，对样品进行了衍射测量，并应用提出的方法精确地测出两个外延层各自与衬底之间的错向角以及两个外延层之间的错向角，所得结果和理论预期值完全一致，本文也指出，采用