ZrO_2-12wt% Y_2O_3沉积薄膜退火后处理前后的相结构研究

在不同温度衬底上射频磁控溅射沉积ZrO2－12wt％Y2O3薄膜进行了不同方式的退火后处理。其一为1000℃大气气氛下的热退火处理，其二为高真空渗氧条件下的电子束退火处理。退火前后的相结构和显微形貌的研究表明，退火前的沉积膜相组成与沉积过程中衬底温度有关，退火后的沉积膜相组成与退火方式有关，其形貌特征经不同形式退火显示出明显的差别。     

双离子束沉积Zr-O薄膜的组成分析

离子束溅射沉积锆的同时以氧离子轰击形成Zr－O薄膜，经RBS及XPS分析表明薄膜由3部分组成：表面碳沾污层；Zr－O膜体；膜与基体的界面过渡层。氧离子束流密度从0.8μA／cm2增至30μA／cm2，膜体的[O]／[Zr]原子比值由略大千零升至2，最后稳定于2，碳沾污层及界面过渡层的厚度并不随氧离子束流密度的增加而变化。还讨论了Zr的化学位移情况。