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讨论了晶闸管移相调压实现电机减压节能的原理和方法,并介绍了用微控制晶闸管移相的智能电机节电系统,测试结果表明该系统具有良好的节能性能。 相似文献
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介绍了金刚石薄膜的性质、当今金刚石薄膜半导体器件的技术、水平和性能。分析了金刚石薄膜作为半导体器件的优异性能、金刚石相对于硅的半导体器件性能的改善和存在的问题,并指出实现金刚石薄膜半导体器件的障碍。 相似文献
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一、加强工业炉窑管理的重要性 炉窑是工业企业中耗能最大的设备。目前全国共有各种炉窑12万台,年总耗能1.6亿吨标准煤,占全国总能耗的四分之一。其中,机械行业的炉窑数量最多,达7.6万台,占全国炉窑总数的60%,年耗能量达3 000万吨标准煤。机械行业中的一些大型企业,95%以上的煤气和50%以上的电都被炉窑“吃掉”;有的厂支出的能源费用占成本的10~20%。而另一方面,能源的利用率仍很低,产品的单耗高。例如,以产品的单位重量可比消耗计算,我国机械行业的加热炉单耗为日本的2.7倍、热处理炉单耗为日本的4倍。以1千美元产值消耗的标准煤比较,日、法、英、西德为340~450公斤,苏联为800公斤,我国却高达3吨。 综上所述,我国工业炉窑的“视在节能潜力”是很大的。要挖掘出这些潜力,有两条途径:第一是靠设备和技术,即所谓“硬途径”,第二是靠管理,即所谓“软途径”。“硬途径” 相似文献
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本文介绍了新近开发成功的BEHAVE软件。该软件具有良好的交互式界面,全面高效的计算模拟功能,是研究探讨微细图形光刻中的驻波效应以及整个微细图形光刻工艺计算模拟的强有力工具。 相似文献
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抗蚀剂曝光的模拟与光刻系统空间像模拟紧密相连 ,一般是用标量衍射方法在特殊几何形状的光源分布和特殊掩摸结构的条件下计算的 ,实质是一定边界条件和初始条件下 Maxwell方程组的求解。驻波是曝光中的寄生效应 ,是光线垂直入射到不同的平行平面介质层之间 ,经多次反射并干涉形成的。驻波的边界条件是平行界面上电磁场矢理的连续。在这种条件下对驻波的描述有 BERNING的多层光学薄膜模型和 MACK的膜层递推解析模型。本文用传统的光学传输矩阵模型来描述 ,建立了简洁有效的迭代算法 ,分析了该算法的收敛性 ,并编制出相应的计算程序 ,给出了计算结果 相似文献
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金刚石薄膜半导体器件 总被引:4,自引:0,他引:4
介绍了金刚石薄膜的性质、当今金刚石薄膜半导体器件的技术、水平和性能。分析了金刚石薄膜作为半导体器件的优异性能、金刚石相地于硅的半导体器件性能的改善和存在的问题中,并指出实现金刚石薄膜半导体器件的障碍。 相似文献