高镁铝合金在喷射成形过程中显微组织的变化

研究了高镁铝合金在喷射成形过程中显微组织的变化.沉积态高镁铝合金基体呈全部等轴晶组织并存在少量显微孔洞是沉积态组织的主要特征.分析了等轴晶组织和显微孔洞在喷射成形中生成的机制.     

溅射靶材综述

本文主要对各领域的应用溅射靶材及其制备方法，并对薄膜镀膜方法和其应用领域作了介绍。     

高镁铝合金在喷射成形过程中显微组织的变化

研究了高镁铝合金在喷射成形过程中显微组织的变化。沉积态高镁铝合金基体呈全部等轴晶组织并存在少量显微孔洞是沉积态组织的主要特征。分析了等轴晶组织和显微孔洞在喷射成形中生成的机制。     

粉末冶金高纯铬和铬合金溅射靶材烧结工艺研究

介绍了不同加工方式对铬靶烧结密度的影响。在机压过程中，采用双向压制，不添任何成型剂和脱氧剂。机压 真空烧结铬环靶材密度为。78％～80％；冷等静压 真空烧结铬板靶材密度大于82％；而经轧制后，铬板靶材密度提高到90％～95％；铬合金靶材采用热压方式，其密度大于98％。通过优化烧结时间和烧结温度等工艺参数，铬环靶材的烧结成本大大降低。     

粉末冶金高纯铬和铬合金溅射靶材烧结工艺研究

介绍了不同加工方式对铬靶烧结密度的影响.在机压过程中,采用双向压制,不添任何成型剂和脱氧剂.机压+真空烧结铬环靶材密度为78%～80%;冷等静压+真空烧结铬板靶材密度大于82%;而经轧制后,铬板靶材密度提高到90%～95%;铬合金靶材采用热压方式,其密度大于98%.通过优化烧结时间和烧结温度等工艺参数,铬环靶材的烧结成本大大降低.