线性级联溅射的机理和主要结果

一、溅射的定义和分类荷能粒子轰击时固体表面被腐蚀的现象称为“溅射”。确切地说,不是粒子轰击靶表面的所有侵蚀现象都定义为溅射,高剂量或高能量粒子流轰击时,靶体宏观加热引起的材料蒸发和表面起泡引起的侵蚀,以及吸附在靶表面上的气体的轰击脱附,通常都不当作溅射。溅射的侵蚀作用主要是用“溅射产额”Y表征的,它定义为每个入射粒子溅射出来的平     

空间菲涅耳透镜的材料与工艺要求分析

该文根据空间菲涅耳聚光透镜的使用要求和空间环境条件，比较了现有光学材料的性能特点，分析了材料折射率、透镜尖劈尺寸和面形误差对透镜光学的影响，进而对透镜成型和安装工艺提出了要求。     

考夫曼型离子源工作稳定性研究

用于离子束辅助轰击镀膜的考夫曼型变孔径球面栅离子源,由于缩小了体积,散热条件不好,离子源启动后温度迅速上升,陶瓷绝缘子的绝缘强度迅速降低,永久磁铁的磁场强度也下降,致使离子源的连续有效工作时间不足半小时。采用多处屏蔽后,延长了陶瓷绝缘子和磁棒处于较低工作温度的时间,使离子源的连续有效工作时间达到了一小时,基本满足了辅助轰击镀膜的要求。     

合成金刚石的某些方法评介

首先扼要阐述了与金刚石薄膜制备技术有关的等离子体特性,随后着重介绍了金刚石薄膜制备技术的最新进展。根据沉积工艺参数和装置的结构评价了各种技术的优缺点。最后指出了目前这些技术中存在的问题。     

离子束辅助沉积薄膜结构的计算机模拟

利用蒙特卡罗法.分析了薄膜柱状结构的成因。通过不同工况薄膜生长的计算机模拟,证明了阴影效应和沉积原子有限迁移是导致柱状结构的原因。采用离子束辅助沉积工艺,可使膜层聚集密度明显提高.柱状结构完全消失。     

工艺参数对纳米颗粒Cu/SiO_2复合薄膜结构和光谱特性的影响

用离子束溅射法制备了具有反常光吸收特性的纳米颗粒CU／SiO2复合薄膜。获得了在离子来参数一定时，基片温度、膜料的沉积时间和镀膜后的保温时间等工艺参数对这种薄膜结构和光学特性的影响规律，并对纳米颗粒Cu／SiO2复合薄膜的反常光吸收特性作了计算和解释。     

空间微机电系统的研究与进展

介绍了微机电系统的基本原理及其在空间应用的发展概况,着重介绍了空间微传感器、微执行器、RF-MEMS、MOEMS、微仪器和微/纳卫星的研究与进展情况。     

MgO载体化学气相沉积法制备碳纳米管的影响因素

用MgO载体化学气相沉积(CVD)技术制备了碳纳米管(CNTs).并用扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和微区拉曼光谱仪研究分析了各种沉积条件下CNTs的形貌结构.对CVD法制备CNTs的主要影响因素如碳源气体种类、沉积温度和Fe催化颗粒在MgO载体中的百分含量进行了分析讨论.     

太空熔体生长砷化镓单晶

本文介绍利用一种将单晶锭条两端固定,中间可以重熔以建立悬浮熔区的反应容器,在回地卫星的微重力环境下用45分钟从熔区两端相向生长出中部直径为1cm,长度分别为10mm和7mm的两块火炬头状砷化镓单晶.对地面生长和空间生长7mm长单晶用KOH溶液为电解液的阳极腐蚀法显示,结果表明:在地面生长的籽晶部位观察到了由重力驱动对流引起温度涨落而造成的密排杂质条纹,在与籽晶相邻接的空间生长单晶部位未观察到这种类型的杂质条纹.同时观察到太空生长单晶边缘附近存在杂质条纹以及在太空单晶末端附近边缘出现胞状结构,它们可能是因降温速率快过冷所致.经熔融KOH腐蚀显示,在地面单晶和10mm长空间单晶交界面出现密排位错,靠近交界面的太空生长单晶位错密度较低,随着晶体生长位错密度逐渐增高,太空生长单晶边缘附近位错密度高于中心区域.     

电推力器的比冲及其选取

根据电推力器的性能特点,给出了国际单位制下电推力器比冲的表达式和单位,结合电推进系统在航天器上的应用,讨论了诸因素对电推进系统最佳比冲的影响以及电推力器比冲的选取.