钨掺杂二氧化钛可见光催化剂低温合成及性能研究

采用低温一步法合成了钨掺杂的二氧化钛,并用X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)、紫外可见漫反射光谱(UV-Vis)等方法对其结构进行了表征.发现掺杂钨的二氧化钛为锐钛矿型晶型,且在可见光区有明显的吸收.以苯酚的光催化氧化降解反应为探针,研究了催化剂的光催化性能.结果表明,本方法合成的钨掺杂的二氧化钛具有理想的可见光催化活性.     

TUD-DNS3脱硝助剂在催化裂化装置的工业应用

TUD-DNS3脱硝助剂在中韩（武汉）石油化工有限公司1号催化裂化装置上进行了工业应用。结果表明：针对两段再生工艺，当系统中助剂占总催化剂藏量的质量分数为2.6%时，烟气脱硫装置外排污水中的氨氮质量浓度由加剂前的100 mg/L下降至40 mg/L以内；助剂的加入降低了CO焚烧炉的炉膛温度，有利于烟气的合格排放，并对装置操作、产品分布及汽油、柴油产品质量无不良影响。     

运动饮料配方设计概论

运动中，人体生理发生一系列的变化，包括水分损失、血糖／糖原消耗、电解质损失等，导致运动中／后的疲劳和运动能力下降。以运动中人体生理特点为基础，通过讨论运动前／中／后补充水、碳水化合物及电解质的问题，论证了运动饮料配方设计的原理依据。     

电磁超声流量计的研制

基于电磁声换能器的原理，研制了一种新型的电磁超声流量计，并讨论提高测量精度的措施。     

An Analysis of Citation Counts of ETRI‐Invented US Patents

From its foundation until 2004, ETRI has registered over 1,000 US patents. This letter analyzes the characteristics of these patents and addresses the explanatory factors affecting their citation counts. For explanatory variables, research team related variables, invention specific variables, and geographical domain related variables are suggested. Zero‐altered count data models are used to test the impact of independent variables. A key finding is that technological cumulativeness, the scale of invention, outputs in the electronic field, and the degree of dependence on the US technology domain positively affect the citation counts of ETRI‐invented US patents. The magnitude of international presence appears to negatively affect the citation counts of ETRI‐invented US patents.     

连续波雷达测距中的解模糊技术

研究连续波雷达测距中的距离模糊问题，分析几种常用解模糊方法的性能，并讨论参差比的选取对测距范围的影响。     

关于我国钢铁工业发展战略的思考

21世纪初是世界经济发展的重大战略机遇期,如何抓住机遇加快发展,是中国钢铁行业应认真思考的问题。十一五我国钢铁工业的发展,靠什么来拉动,还能靠大规模的投资吗?目前我们还不能生产的双高产品怎么办,靠花钱能买来技术吗?靠市场能换来核心产品吗?值得深思。当今,我们思考的不仅应考虑个别企业的生存问题,而更应考虑的是钢铁行业整体的长远发展问题,即     

分布式无线传感器网络通信协议研究

在归纳分布式无线传感器网络研究进展的基础上，给出了综合分布式无线传感器网络技术各个方面的协议体系结构，并在新的体系结构下，系统地阐述了分布式无线传感器网络通信协议研究的进展，介绍了典型的应用案例和国外相关计划的研究情况。最后，指明了这一处于发展初期的研究领域的未来发展方向。     

了解您的管理跨度--科研项目管理方法探索

概要介绍了科学的管理技术——项目管理方法，讨论了管理跨度在项目管理中的重要性，并推荐了如何了解管理跨度的方法。     

Solid phase crystallization of amorphous silicon on glass by thin film heater for thin film transistor (TFT) application

A new process for solid phase crystallization (SPC) of amorphous silicon (a-Si) using thin film heater is reported. With this localized Ti silicide thin film heater, we successfully crystallized 500 Å-thick a-Si in a few minutes without any thermal deformation of glass substrate. The size of crystallized silicon grain was abnormally big (30-40 μm). Polycrystalline thin film transistors (TFT) fabricated using this unique thin film heater showed better mobility than those of conventional ones by furnace annealing.