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采用直流磁控溅射和后退火氧化工艺在p型GaAs单晶衬底上成功制备了n-VO_2/pGaAs异质结,研究了不同退火温度和退火时间对VO_2/GaAs异质结性能的影响,并分析其结晶取向、化学组分、膜层质量以及光电特性。结果表明,在退火时间2 h和退火温度693 K下能得到相变性能最佳的VO_2薄膜,相变前后电阻变化约2个数量级。VO_2/GaAs异质结在308 K、318 K和328 K温度下具有较好的整流特性,对应温度下的阈值跳变电压分别为6.9 V、6.6 V和6.2 V,该结果为基于VO_2相变特性的异质结光电器件的设计与应用提供了可行性。 相似文献
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Chenglai Xin Rong Yuan Jiang Wu Qingyuan Wang Yanan Zhou 《Ceramics International》2021,47(3):3411-3420
A novel method for fabricating a nano-Cu/Si3N4 ceramic substrate is proposed. The nano-Cu/Si3N4 ceramic substrate is first fabricated using spark plasma sintering (SPS) with the addition of nanoscale multilayer films (Ti/TiN/Ti/TiN/Ti) as transition layers. The microstructures of the nano-Cu metal layer and the interface between Cu and Si3N4 are investigated. The results show that a higher SPS temperature increases the grain size of the nano-Cu metal layer and affects the hardness. The microstructure of the transition layer evolves significantly after SPS. Ti in the transition layer can react with Si3N4 and with nano-Cu to form interfacial reaction layers of TiN and Ti–Cu, respectively; these ensure stronger bonding between nano-Cu and Si3N4. Higher SPS temperatures improve the diffusion ability of Ti and Cu, inducing the formation of Ti3Cu3O compounds in the nano-Cu metal layer and Ti2Cu in the transition layer. This study provides an important strategy for designing and constructing a new type of ceramic substrate. 相似文献
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