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以六羰基钼和氧气为前驱体,通过等离子增强原子层沉积技术(PE-ALD)在硅基片上实现了α-MoO3薄膜的低温制备。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱仪等手段对薄膜的晶体结构、表面形貌及薄膜成分进行表征和分析。研究发现衬底温度和氧源脉冲时间对MoO3薄膜的晶体结构和表面形貌变化起关键作用。当衬底温度为170℃及以上时所制备的薄膜为α-MoO3;适当延长ALD单循环中的氧源脉冲时间有利于低温沉积沿(0k0)高度择优取向的MoO3薄膜。根据对不同厚度MoO3薄膜表面的原子力显微图片分析,MoO3薄膜为岛状生长模式。 相似文献
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采用燃烧法制备MoO3/ZrO2催化剂,该催化剂由于具有比表面积大、粒径小的优点,表现出很高的低温耐硫甲烷化活性。通过考察硫化工艺条件的影响发现,硫化过程中硫化时间、硫化压力、硫化氢浓度的影响不大,而硫化温度的影响较明显,300℃下恒温硫化效果最佳,表征结果表明,300℃下恒温硫化可以使催化剂完全硫化,得到较多的MoS2晶格条纹,有利于提高催化剂的甲烷化活性。恒温硫化时,硫化温度低于300℃时,催化剂硫化不完全,形成的MoS2晶格条纹较少;硫化温度过高会导致催化剂过度硫化并发生团聚,从而导致催化剂的耐硫甲烷化活性降低。分步硫化时目标温度为400℃时效果最佳,且与300℃恒温硫化的效果接近,对于MoO3/ZrO2催化剂,可选择300℃恒温硫化,适宜的硫化条件为:硫化压力0.1 MPa,硫化温度300℃,硫化氢浓度3% H2S/H2,硫化时间4 h。 相似文献
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采用混捏法制备了添加不同质量分数氧化钼的Raney Ni-Al2O3吸附剂,并利用XRD、BET、SEM、XPS等手段对吸附剂进行表征,采用连续固定床反应装置评价吸附剂的脱硫性能。结果表明,当氧化钼负载量为1%时,Raney Ni-Al2O3吸附剂吸附活性最强,比表面积和孔径均达到最大,分别为68.45 m2/g、15.24 nm。此时Raney Ni-Al2O3吸附剂在固定床反应器中对苯中噻吩的脱硫性能最高,饱和硫容达到最大,为35.17 mg/g。MoO3添加量过高时会使吸附剂中的镍产生NiMoO4晶相,堵塞吸附剂表面孔道,骨架镍海绵状结构特征不再明显,吸附活性大大降低。与未改性的Raney Ni-Al2O3吸附剂相比,添加1%MoO3后的吸附剂表面分布更多的金属镍和氧化镍。 相似文献