全文获取类型
收费全文 | 3321篇 |
免费 | 190篇 |
国内免费 | 456篇 |
专业分类
电工技术 | 36篇 |
综合类 | 173篇 |
化学工业 | 175篇 |
金属工艺 | 369篇 |
机械仪表 | 276篇 |
建筑科学 | 12篇 |
矿业工程 | 34篇 |
能源动力 | 13篇 |
轻工业 | 67篇 |
水利工程 | 3篇 |
石油天然气 | 29篇 |
武器工业 | 14篇 |
无线电 | 1428篇 |
一般工业技术 | 789篇 |
冶金工业 | 60篇 |
原子能技术 | 390篇 |
自动化技术 | 99篇 |
出版年
2024年 | 32篇 |
2023年 | 76篇 |
2022年 | 86篇 |
2021年 | 105篇 |
2020年 | 76篇 |
2019年 | 101篇 |
2018年 | 63篇 |
2017年 | 65篇 |
2016年 | 87篇 |
2015年 | 79篇 |
2014年 | 135篇 |
2013年 | 132篇 |
2012年 | 162篇 |
2011年 | 129篇 |
2010年 | 134篇 |
2009年 | 167篇 |
2008年 | 203篇 |
2007年 | 236篇 |
2006年 | 212篇 |
2005年 | 173篇 |
2004年 | 184篇 |
2003年 | 155篇 |
2002年 | 101篇 |
2001年 | 109篇 |
2000年 | 94篇 |
1999年 | 96篇 |
1998年 | 79篇 |
1997年 | 83篇 |
1996年 | 86篇 |
1995年 | 105篇 |
1994年 | 90篇 |
1993年 | 50篇 |
1992年 | 62篇 |
1991年 | 53篇 |
1990年 | 53篇 |
1989年 | 55篇 |
1988年 | 13篇 |
1987年 | 10篇 |
1986年 | 20篇 |
1985年 | 10篇 |
1984年 | 1篇 |
1983年 | 2篇 |
1982年 | 1篇 |
1959年 | 1篇 |
1951年 | 1篇 |
排序方式: 共有3967条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
《传感器与微系统》2019,(12):5-9
研究了使用两种大气压等离子体射流(APPJ)刻蚀Parylene-C薄膜所产生刻蚀区域的形貌和成分之间的差异。两种APPJ分别由单环电极装置和双环电极装置产生。由单环电极APPJ刻蚀的Parylene-C表面是非均匀的,从刻蚀区域的中心到边缘可分为三部分:区域(I)是中心区域,此处Si衬底严重受损;区域(II)是有效的刻蚀区域;区域(III)是刻蚀边界。与单环电极APPJ相比,双环电极APPJ刻蚀的Parylene的形貌要好得多。特别是在区域(I)中,Si片受到轻微损坏。X射线光电子能谱分析(XPS)结果表明:单环电极APPJ刻蚀区域的O元素原子含量多于双环电极。此外,还研究了两种APPJ的刻蚀速率,相比于双环电极APPJ,单环电极APPJ具有较高的刻蚀速率。 相似文献
3.
4.
5.
发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制,实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。 相似文献
6.
真空微电子荧光平板显示器件的实验研究刘杰明,李志能,陈秀峰(浙江大学信息与电子工程学系)关键词:真空微电子,反应离子刻蚀一、引言近十年来,随着真空微电子学的崛起,利用微细加工技术,使真空元器件集成化和高性能化已成为可能,一种新型场致发射阵列真空荧光平... 相似文献
7.
介绍了GaAs MMIC高台面刻蚀制备工艺方法,解决了高低台面联线问题,提高了单片集成电路性能,保证了可靠性。 相似文献
8.
本文研究了金属(Cu)/金属(Ag衬底)系统的荷能束辐照引起的表面偏析现象。观察到Cu在多晶Ag衬底上溅射淀积过程中,Ag原子在Cu膜表面的偏析,且淀积Cu原子能量越大,Ag原子偏析程度越大,即观察到了淀积Cu原子10~(-1)~1eV量级的平均能量差异对膜层表面偏析行为的影响。对溅射淀积所得膜层进行keV量级的离子束辐照,Ag原子的表面偏析程度更甚。 相似文献
9.
合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺(HDA)和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯(BPhMA)的共聚物p(HDA-BPhMA)s。当HDA含量较高时,共聚物可在气,液界面上形成稳定,排列紧密的单分子薄膜,并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上,形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett(LB)膜。这种LB膜被成功地应用于光刻,获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层,可将图形进一步转移至金属薄膜上,得到分辨率较高的金属图形,在图形转移的过程中,这种LB膜显示出较高的抗蚀性,有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。 相似文献
10.