下一代光刻开发的进展

虽然下一代光刻(NGL)技术的开发仍在继续大力开展工作，但许多人一直支持“不断延续光学光刻”的呼声。248nm光刻性能的进一步扩展，更激励许多企业界人士指望用193nm光刻来完成45nm技术节点的光刻。     

基于光敏自组装多层膜的液晶光控取向膜

采用layer-by-layer(LBL)的方法，将基板依次在具有光敏双键的季铵盐水溶液和聚乙烯基苯磺酸钠水溶液中浸泡，石英基板表面形成了自组装多层沉积膜。经线性偏振紫外光辐照后，LBL多层膜表现出明显的紫外吸收各向异性。将两片带有各向异性薄膜的基板做成平行液晶器件。在正交的偏光显微镜下观察，发现取得均一、稳定的取向效果。该种光控取向膜有望用作LCoS微显示的取向层。     

从事放射性个人剂量监测分析与防护调查

为了能及时了解放射性工作人员的受照剂量，以便能够更好地保障放射工作人员的健康与安全，采用热释光测量法对包头地区从事放射性工作的工作人员进行了个人剂量监测，并对他们的剂量当量频数分布进行了统计与分析，对工作环境的防护进行了调查对比，就今后的工作提出建议。     

福建物构所硼酸盐晶体生长技术取得重要突破

由中国科学院福建物构所叶宁研究员主持的“新型可见紫外光区变频晶体与器件”，近日通过了福建省科技厅组织的技术成果鉴定。鉴定专家委员会一致认为，该项目总体技术达到国际先进水平，其中大尺寸YLSB和采用钨酸盐为助熔剂的YAB晶体生长技术取得重要突破，达到国际领先水平。     

氟化物的水热合成及其VUV发光性能

以中温水热法合成了NH4Y3F10，YF3，LiYF4等晶体氟化物及其荧光粉NH3Y3F10：Eu^3 LiYF4:Tb^3 ，并讨论了水热合成条件。用X-ray粉末衍射确定了物象，并用PowderX计算机软件进行了指标化，确定了晶格参数。还测定了NH4Y3F10：Eu^3 和LiYF4：Tb^3 荧光粉的VUV或UV光激发的激发光谱和发射光谱。     

真空紫外光源的研制及应用

本文介绍一种真空紫外无极放电灯.这种光源可用于光离子化气相色谱仪、质谱仪等利用离子流测量物质的分析仪器.它由晶体窗口、玻璃壳、工作气体三部分组成.通过对LiF、MgF_2等晶体紫外透过性能以及H、He、Ar、Kr等气体放电特性的讨论,给出了提高共振辐射和延长使用寿命的基本原则.使用这种灯(Kr)的光离子化气相色谱仪,灵敏度为0.34A/g(苯),检出限为0.24pg(苯),均优于FID一个数量级.     

胶接及非金属材料的焊接

含中心裂纹铝合金板复合材料单面胶接修复后的疲劳特性;水性聚氨酯胶粘剂的开发与应用研究进展;耐高温聚酰亚胺胶黏剂的研究进展;ZUV-X紫外光固化粘合剂的研锅;环境友好型胶牯剂的研制;