被动式活性炭氡采样器扩散控制管设计参数的选择

本文介绍被动式活性炭氡采样器扩散控制管设计参数的选择方法。通过对活性炭吸附氡量与暴露时间的关系式的线性化处理,选择了适当的扩散控制管的参数,可以大大减小温度对测量结果的影响,同时可保持探测器有较高的灵敏度。     

扩散控制下固定床电化学反应器研究：（Ⅲ）反应器的设计与操作

采用一维反应器模型对扩散控制下固定床电化学反应器的设计进行了详细的讨论，并对反应器的优化操作进行了初步探讨。     

儿茶素在离子交换纤维上的扩散机理研究

研究了静态下儿茶素在自制的聚丙烯基阴离子交换纤维上的扩散机理。结果表明，离子交换纤维对儿茶素的吸附主要以扩散而不是以交换为主控步骤．在反应的初期．以液膜扩散为主，反应3min后．以孔隙扩散控制为主。     

高分子基质和光学-氧压敏感涂料性能的关系

基于氧对荧光的淬灭作用,由荧光探针和高分子基质组成的氧压敏感涂料(PSP),是用于风洞测量空气动力学模型表面空气压力分布的新型压力传感器.研究荧光探针和高分子基质对PSP压力灵敏度的影响,可以为提高压力传感器的测量精度提供向导.实验将聚甲基苯基硅氧烷、三氟氯乙烯-醋酸乙烯酯、聚二甲基硅氧烷和聚甲基氟丙基硅氧烷分别与芘丁酸(PYB)和N,N,N’,N’-四甲苯基联苯胺(TBD)两种荧光探针共混,观察其荧光发射的氧猝灭作用.结果表明,PYB在上述聚合物中的氧猝灭灵敏度和响应时间随聚合物的透氧性而变化,属于扩散控制机理;在氮-氧转换时荧光猝灭时间响应也与聚合物的氧透过率一致;而TBD与4种聚合物的相互作用导致荧光发射光谱不同程度的位移,即TBD/聚合物体系的氧猝灭灵敏度与探针-聚合物的相互作用相关,而聚合物的氧透过率影响不明显.     

LY12铝合金电解着黑色方法及机理的研究

为了解决LY12铝合金电解着黑色存在的着变色和掉色问题,研究了LY12铝合金电解着黑色的工艺方法,观察了电解着黑色膜层的形貌,分析了膜层表面的成分,并用线性电位扫描法和循环伏安法探讨了电极反应过程中金属离子的电化学反应行为.结果表明,LY12铝合金在NiSO4-SnSO4盐溶液中电解着色能得到黑色膜层,元素镍和锡沉积于氧化膜孔内,其沉积反应过程为扩散控制.     

CO_2/PS等静压微孔发泡研究

对CO_2与PS在高压设备中进行等静压处理的微孔发泡进行了研究。结果表明,改变CO_2的压力可以控制发泡的泡孔密度和泡孔大小。增加等静压的压力和PS中CO_2的浓度,可以提高泡孔的密度、减小泡孔的直径。结合CO_2的扩散及释压发泡,获得了CO_2在PS中扩散过程的数据,采用剩余界面法得出了CO_2在PS中的扩散厚度与扩散时间的关系。根据CO_2在PS中解吸附的特征,对泡沫不发泡皮层的厚度控制也进行了研究。     

甘氨酸在离子交换树脂中扩散过程的控制步骤

研究了甘氨酸在001 ×7,001 ×4和D061 3种阳离子树脂上离子交换动力学过程,对甘氨酸在3种离子交换树脂上的扩散过程控制步骤进行分析.使用间歇式搅拌槽法分别测定了不同温度下甘氨酸在001 ×7,001 ×4和D061树脂上的吸附曲线,估算了颗粒扩散系数和相间传质系数,并比较了3种阳离子交换树脂吸附甘氨酸的特性...     

Bi-Cu film deposition in aqueous solutions

The relatively uniform bismuth-copper film was electrodeposited between −15 and −20 mV in the sulfate electrolyte containing 4 mmol/L bismuth ion and 2 mmol/L copper ion. Only copper was electrodeposited at −5 mV. The dendritic bismuth-copper film was electrodeposited under −20 mV. The cathodic current became constant between −20 and −400 mV. Therefore, bismuth-copper electrodeposition changes from charge transfer controlling to diffusion controlling at −20 mV. On the other hand, the uniform bismuth-copper film was electrodeposited between −5 and −35 mV in the methanesulfonate electrolyte containing 4 mmol/L bismuth ion and 2 mmol/L copper ion. The dendritic bismuth-copper film was electrodeposited under −35 mV. The potential region for good electrodepositon in methanesulfonate electrolyte is wider than that in sulfate electrolyte. Therefore, it is easy to control electrodeposition conditions by using methanesulfonate electrolyte.     

电镀电源的发展与新技术

介绍了电镀的工作原理及电镀电源的发展历程。脉冲电镀是一项新的电镀技术，脉冲电镀电源是发展的方向，针对脉冲电源这项新技术重点进行了介绍。