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氧化气氛下铜红花釉的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
林营  杨海波  王芬 《佛山陶瓷》2002,12(12):8-10
通过在基础釉中引入SiC及复合还原剂,成功地试制出氧化气氛下1130-1160℃烧成,适合各类艺术瓷装饰的低温慢烧铜红花釉配方;实验研究了复合还原剂影响结果,并且讨论了分析了PbO,B2O3等添加剂的作用机理,确定了它们的最佳加入量。  相似文献   
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