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1.
新结构MOSFET   总被引:1,自引:0,他引:1  
林钢  徐秋霞 《微电子学》2003,33(6):527-530,533
和传统平面结构MOSFET相比,新结构MOSFET具有更好的性能(如改善的沟道效应(SCE),理想的漏诱生势垒降低效应(DIBL)和亚阈值特性)和更大的驱动电流等。文章主要介绍了五种典型的新结构MOSFET,包括平面双栅MOSFET、FinFET、三栅MOSFET、环形栅MOSFET和竖直结构MOSFET。随着MOSFET向亚50nm等比例缩小,这些新结构器件将大有前途。  相似文献   
2.
介绍有源电力滤波器设计中EXB841型绝缘栅场效应晶体管(IGBT)驱动器的驱动原理和电路特点,对IGBT的栅极驱动特性、栅极串联电阻进行了探讨,给出过流保护和过压吸收的有效办法。样机试运行证明此种设计方案可靠、有效。  相似文献   
3.
谐波齿轮机构在商业表格印刷机中的应用   总被引:1,自引:1,他引:0  
潘光华 《包装工程》2003,24(3):41-42,55
从商业表格印刷机特殊要求出发,以某一具体机型的传动系统为例,提出采用谐波齿轮机构解决纵向套准的问题。并且分析研究了谐波齿轮机构的工作原理及其在商业表格印刷机中的使用。  相似文献   
4.
硅微机械梳齿静电谐振器的建模与分析   总被引:5,自引:2,他引:3  
李宏生 《压电与声光》2002,24(5):421-424
基于参数化的计算机辅助设计(CAD)软件,对硅微机械梳齿静电谐振器进行了实体建模,以有限元分析软件为工具,进行了谐振器的模态分析,静态分析和谐响应分析,初步揭示了谐振器的静、动态特性,有助于改善设计效率和质量,展示了计算机辅助工程(CAE)技术在微机电系统(MEMS)研究中的重要作用。  相似文献   
5.
LDD方法在提高电路工作电压中的应用研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
曾莹  王纪民 《微电子学》1997,27(1):37-42
研究了利用轻掺杂漏结构来制作高电源电压器件的工艺方法。分析了LDD结构参数对器件击穿特性的影响,并结合实验结果对N^-区的注入剂量,长度及引入的串联电阻进行了优化设计。  相似文献   
6.
NMOS器件两次沟道注入杂质分布和阈电压计算   总被引:1,自引:1,他引:0  
王纪民  蒋志 《微电子学》1997,27(2):121-124
分别考虑了深浅两次沟道区注入杂质在氧化扩散过程中对表面浓度的贡献。对两次注入杂质的扩散分别提取了扩散系数的氧化增强系数、氧化衰减系数和有效杂地系数,给出了表面浓度与工艺参数之间的模拟关系式,以峰值浓度为强反型条件计算了开启电压,文章还给出了开启电压、氧化条件、不同注入组合之间的关系式。  相似文献   
7.
随着开关磁阻电机的调速控制系统日臻完善,因其优越性能使得在各行业得到迅速推广,但在煤矿井下的特定环境中使用该调速系统仍存在着诸多问题有待分析研究。  相似文献   
8.
讨论了如何利用Access7.0设计包含有通信的管理信息系统,并结合生产管理系统的实例。利用微软公司的Visual Basic中包含的通信控件,实现Windows95环境下通信程序的设计方法,介绍了通信控件的属性以及使用方法,给出了基本的通信程序。  相似文献   
9.
新型高k栅介质材料研究进展   总被引:5,自引:0,他引:5  
随着半导体技术的不断发展,MOSFET(metal-oxide-semiconductor field effect transistor)的特征尺寸不断缩小,栅介质等效氧化物厚度已小至nm数量级。这时电子的直接隧穿效应将非常显著,将严重影响器件的稳定性和可靠性。因此需要寻找新型高k介质材料,能够在保持和增大栅极电容的同时,使介质层仍保持足够的物理厚度来限制隧穿效应的影响。本文综述了研究高k栅介质材料的意义;MOS栅介质的要求;主要新型高k栅介质材料的最新研究动态;展望了高k介质材料今后发展的主要趋势和需要解决的问题。  相似文献   
10.
针对深孔钻机水刹车传动机构原设计结构中存在的问题进行分析、研究、并对机构进行了改进,满足了钻机绞车的各项性能指标和技术要求。  相似文献   
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