RF磁控溅射制备钛酸锶钡BST纳米薄膜

钛酸锶钡(BST)薄膜作为一种高K介质材料在微电子和微机电系统等领域具有广阔的应用前景,人们已对BST薄膜的制备工艺技术和介电性能进行了大量的研究。BST纳米薄膜的制备工艺直接影响和决定着薄膜的介电性能(介电常数、漏电流密度、介电强度等)。对RF磁控反应溅射制备BST纳米薄膜的工艺技术进行了综述。从溅射靶的制备、溅射工艺参数的优化、热处理、薄膜组分的控制,及制备工艺对介电性能的影响等方面,对现有研究成果进行了较全面的总结。     

Effect of temperature on methyl radical generation over Sr/La2O3 catalysts

The role of gas phase CH₃ radicals in the oxidative coupling of CH₄ over 1 wt% Sr/La₂O₃ is supported by the observations that (i) this is a very effective catalyst for the generation of CH₃ · radicals and (ii) the concentration of CH₃ · radicals increases with temperature over the range of 450 °C–800 °C.     

粱南输油管线防垢技术的研究与应用

针对梁南结垢的具体情况，探讨了输油管线结硫酸盐垢的原因及影响因素，指出了化学防垢的可行性。室内成功研制出DY-2阻垢剂，现场应用后有效地预防了硫酸钡、锶垢的形成。     

溶胶-凝胶法制备(Sr,Pb)TiO3纳米晶粉及表征

采用溶胶－凝胶法成功地合成了（Sr,Pb)TiO3纳米晶粉，并利用FTIR技术对凝胶的形成过程及350℃，1．5h煅烧获得的粉体材料进行了表征。实验以TG－DSC分析作为拟定煅烧温度的依据，以XRD作为煅烧产物的分析手段，最佳煅烧温度为600℃，所合成的（Sr,Pb)TiO3纳米晶粉的平均晶粒尺寸约为21nm，属钙钛矿型立方顺电相结构。     

液膜法分离富集,测定水中微量锶

用乳状液膜体系对锶进行分离富集，该体系包括协同流动载体（ＰＭＢＰ，ＴＢＰ），表面活性剂（ＳＰＡＮ８０）增强剂（丙三醇）溶剂（正己烷）和内相（１．２ｍｏｌ／Ｌ的盐酸溶液），实验表明，在适宜的条件下，锶的富集效率可达９９．５％以上，而在此条件下许多共存离子，如Ｆｅ＾３＋，Ａｌ＾３＋，Ｃａ＾２＋，Ｍｇ＾２＋，Ｂａ＾２＋，Ｃｒ＾３＋，ＣＯ＾２＋，Ｎｉ＾２＋，Ｚｒ＾４＋，Ｃｕ＾２＋，Ｚｎ＾２＋，Ｐｂ＾２＋和     

高纯纳米碳酸锶干燥设备的选型和使用

微波干燥器用于干燥高纯纳米碳酸锶,其热效率比传统干燥方法提高5%～10%,可达80%以上,生产环境大大改善,提高了碳酸锶的干燥技术水平。     

分光光度法测定工业碳酸锶中氯化物

采用目视比浊法测定工业碳酸锶中的氯化物，若溶液有色，准确定量非常困难。在溶样时加入氧化剂，利用分光光度计进行比浊。研究了在氧化剂存在下，样品的溶解、过滤对结果的影响，添加氧化剂对体系稳定性的影响，建立了用分光光度计进行比浊测定氯化物的方法，方法具有良好的线性关系，回收率在101％-106％，相对标准偏差在1．15％-3．65％，结果准确、快速，满足了生产对氯化物含量定量的要求。     

一次低烧SrTiO3基晶界层电容器的研究

研究了以Ｌｉ２ＣＯ３为助烧结剂、Ｓｒ（Ｌｉ１／４Ｎｂ３／４）Ｏ３为施主掺杂剂、Ｂｉ２Ｏ３和ＳｉＯ２为晶界绝缘剂的ＳｒＴｉＯ３基晶界层电容器的一次低温烧成技术。初步探索了Ｔｉ／Ｓｒ比值、施主掺杂剂、绝缘剂对显微结构及介电性能的影响。在１１５０℃烧成温度下，获得了εａｐｐ〉３．５×１０＾４；ｐ〉１．０×１０＾１１Ω·ｃｍ；ｔｇδ〈１．０％；ΔＣ／Ｃ〈±５．０％（－２５￣＋８５℃）的ＳｒＴｉＯ３基晶界层     

不同添加剂对SrAl2O4:(Eu,Dy)磷光体发光性能的影响

在较低的温度下用燃烧合成法快速合成了 Eu2 ,Dy3 掺杂的SrAl2O4长余辉磷光体发光材料.研究了P2O5,CaF2,H3BO3,NaF 几种添加剂对SrAl2O4:(Eu,Dy)粉体发光性能的影响.结果发现:H3BO3和P2O5的添加有利于改善磷光体的发光性能,而在配料中加入CaF2和NaF,磷光体发光效率降低.随着这几种添加剂的加入,SrAl2O4:(Eu,Dy)磷光体材料发射光谱的主发射峰不同程度的出现蓝移.根据实验结果分析了添加剂的作用机理.     

溶液雾化微波等离子体CVD法制备SrTiO3薄膜

研究了一种新型高效制备多组分陶瓷薄膜的方法，它采用可溶性无机盐溶液雾化为反应膜，利用微波等离子体化学气相沉积工艺在Al2O3基片上制备了SrTiO3基陶瓷薄膜，实验结果表明，薄膜沉积时衬底温度对成膜的相组成与结构产生重要影响，本实验中当沉积薄膜衬底温度在700℃时，可以制备出单一相组成，符合化学计量比，结晶性较好，晶粒度呈球形且均匀分布的SrTiO3薄膜，通过对不同氧分压下薄膜电阻测试，发现此SrTiO3薄膜在O2 N2气氛中氧浓度由1%变化到20%时，其电阻值由5.0MΩ变化到2.5MΩ，从而显示出一定氧敏性能。