投影光刻机调平调焦系统原理与故障分析

以某型投影光刻机为例介绍了调平调焦系统的基本原理和主要构成,详细叙述了调平调焦系统的运行步骤,并结合多年的投影光刻机维修经验总结了调平调焦系统的常见故障,给出了处理故障的方法和步骤。     

100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的发展

阐述了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的功能与构成，并通过对国内外100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的技术现状的分析，总结出了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台所包含的各项关键技术，为100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的研制奠定了基础。     

我国"十五"期间IC制造装备的发展战略研究

本文将通过世界IC工艺装备的发展趋势和国内现状的分析，从十五“863”重大专项的角度，对我国的IC装备发展战略进行探讨，提出以100nm的光刻机等关键设备为战略目标，以自主技术创新突破和产业化为目的，实现我国IC装备技术和产业的跨越式发展。     

UV-LIGA深度光刻机平滑衍射技术研究

UV-LIGA深度光刻技术是加工微型机电系统的一项重要的微细加工技术。介绍了一种平滑衍射效应的位错强度叠加原理，它采用了蝇眼积分透镜去平滑衍射，并模拟数值计算了硅片表面的光强分布，最后给出了光刻结果。     

国际微电子专用关键设备的现状和发展趋势（考察报告）

讲述了参观Ｓｅｍｉｃｏｎ／ｗｅｓｔ９４′展览会及考察美国和西德的５个公司、１所大学所了解到的投影光刻技术、电子束曝光技术、透镜面形测试技术的发展。     

分步重复投影光刻机整机控制管理软件

计算机分系统是光刻机整机控制和管理的中枢，直接反映和影响整机的性能和介绍了计算机硬件接口控制原理，描述了分步重复投影光刻机系统软件的主要设计思想和软件的主要功能。     

杜邦4815干膜应用技术

本文较详细地介绍了美国杜邦公司４８１５干膜的性能和它在微波器件电路制作，尤其是在孔金属化微波器件电路制作中的应用，提供了在我所现有设备（ＹＺＢ－５００曝光机和ＪＢＡ２０００光刻机）条件下，用４８１５干膜工艺能制作出最精细的电路尺寸和间隙值，即国内的新记录。