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1.
2.
针对反射面成型的复杂影响因素,提出平面桁架构建的定日镜面形支撑结构优化技术路线. 利用模拟仿真、数值计算和优化算法等方法,解析20 m2定日镜面形定义技术路线的4个组成环节:面形规格及宽高比、上弦杆的截面矩、平面桁架组间距的最优值、机加工中工艺控制要点的量化. 试制小型定日镜进行实验,分析光斑形状和能流密度分布特性,并与理想球面形光斑比较,两者的拟合优度大于0.98. 实验结果表明,当反射镜宽高比取1.2,上弦杆截面矩取40 000 mm4,桁架组间距取950 mm,上弦杆和斜杆的开孔公差小于0.9 mm时,反射面形的质量提升. 研究从原理和实践上证明了该优化技术路线的可行性. 相似文献
3.
4.
文章主要讨论了自动交换光网络(ASON)控制平面的两种不同结构:控制平面在网元外部的结构和控制平面部分集成在网元内部的结构,并对这两种结构进行了比较. 相似文献
5.
6.
7.
The feature scale planarization of the copper chemical mechanical planarization (CMP) process has been characterized for two
copper processes using Hitachi 430-TU/Hitachi T605 and Cabot 5001/Arch Cu10K consumables. The first process is an example
of an abrasive-free polish with a high-selectivity barrier slurry, while the second is an example of a conventional abrasive
slurry with a low-selectivity barrier slurry. Copper fill planarization has been characterized for structures with conformal
deposition as well as with bumps resulting from bottom-up fill. Dishing and erosion were characterized for several structures
after clearing. The abrasive-free polish resulted in low sensitivity to overpolish and low saturation levels for dishing and
erosion. Consequently, this demonstrated superior performance when compared to the International Technology Roadmap for Semiconductors
(ITRS) 2000 roadmap targets for planarization. While the conventional slurry could achieve the 0.13-μm technology node requirements,
the abrasive-free polish met the planarization requirements beyond the 0.10-μm technology node. 相似文献
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9.
10.
Youngjean Jung Panayiotis Papadopoulos R. O. Ritchie 《International journal for numerical methods in engineering》2004,60(2):429-460
This work concerns the micromechanical constitutive modelling, algorithmic implementation and numerical simulation of polycrystalline superelastic alloys under multiaxial loading. The model is formulated in finite deformations and incorporates the effect of texture. The numerical implementation is based on the constrained minimization of the Helmholtz free energy with dissipation. Simulations are conducted for thin tubes of Nitinol under tension–torsion, as well as for a simplified model of a biomedical stent. Copyright © 2004 John Wiley & Sons, Ltd. 相似文献