薄膜--支撑投影显示市场的发展

从数字成像到生物技术应用领域，器件光谱响应调制方法的简单化使零件设计者的工作更加游刃有余。     

薄膜蒸镀光学控制中的一种现象的数学分析

证明了在连续蒸镀两层高，低折射率介质膜过程中，当第一层厚度不足λ／４厚时，刚开始蒸镀第二层膜时其反射率变化趋势与第一层膜相同，并由此展开，说明两层厚度不足λ／４的薄膜在很大程度上等价于一层λ／４的薄膜。     

光学薄膜在光通信中的应用

主要介绍了光学薄膜在光通信的无源型器件中的原理及应用,并与光纤光栅和平面光波导型的无源器件作简单比较。     

以溶胶—凝胶法制备光学薄膜

溶胶－凝胶过程是制备包括光学涂膜在嵛大类氧化物制品的通用手段。为激光系统涂膜所进行的研究已持续近３年，早期的工作由于破坏阈值低和价格昂贵而受阻，然而最近的一些改善已导致特别成功地制出四分之一波长烧结二氧化硅减反膜，该膜已用于高功率激光聚变系统，其激光破坏阈值高于其他方法制备的膜２￣３倍，前不久研究制备的１／４波长高低折射率交替多层高反膜虽没有减反膜那么好，但与和其竞争的材料相比，仍有其优越必，此法     

石英晶体监控法镀制高精度光学薄膜

讨论了石英晶体监控法在光学薄膜镀制过程中的应用原理。通过与常规的光学监控法镀制的膜层相比较．证实了石英晶体监控法有助于提高光学薄膜的光学品质。试验表明所镀膜层的光学性能优异，在光通信和激光器等领域具有广阔的应用前景。     

光热偏折技术研究光学薄膜中的导波传播衰减

一台新的利用光热偏折技术测试光学薄膜中导波的传播衰减的实验装置。借鉴波导光学中传播衰减来表征高质量光学薄膜的损耗与质量。实验结果表明衰减系数能很灵敏、全面反映出薄膜的性能与质量。     

磁控反应溅射沉积AlN薄膜的制备工艺

采用反应磁控溅射的技术,利用高纯氮气和氩气混合气体在K9玻璃基片上沉积了AlN薄膜.通过正交实验,分析了工艺参数与沉积速率的关系.研究了氮气浓度对透过率的影响.实验结果表明:在各工艺参数中靶功率对沉积速率影响最大,靶功率为1.0 kW,氮气浓度控制在25%～35%时薄膜的性能良好,沉积速率为39 nm/min,薄膜在可见光区域平均透过率为90%.该薄膜可以广泛用于光学薄膜和压电薄膜材料.     

光学薄膜元器件外观特性机器视觉检测系统

本系统利用工业级摄像头及开发包的机器视觉功能与计算软件编程控制技术相结合,通过与输入控制系统中的标准膜片模板外观品质进行对比,实现高速高效、准确识别检测光学薄膜器件中滤光片的外观缺陷。可在生产线上根据外观品质标准模板中设定的类别进行自动分类装盒。     

短中波红外长线阵拼接集成滤光片技术研究

空间光谱成像技术的发展使得探测器阵列与分光元件的集成成为一种趋势,长线阵拼接集成滤光片是空间多光谱成像仪实现焦平面集成分光的关键器件,在我国空间多光谱成像光学系统中需求明显。设计了4通道短中波红外长线阵拼接集成滤光片,采用离子束辅助轰击的电子枪蒸发方法制备了各通道窄带滤光片,利用专门研制的工装探索了拼接工艺,研制出了短中波红外长线阵拼接集成滤光片。测试结果表明:集成滤光片各通道平均透射率达到90%,最小带宽为230 nm （中心波长为4.95 μm）,光谱性能与设计结果吻合,满足性能指标要求。最小拼缝宽度仅为10 μm,拼缝不平行误差为1 μm,集成滤光片设计结构和拼接强度能够耐受抗振性试验。该集成滤光片已经在空间光学遥感仪器上成功应用。     

基于粒子群算法的椭偏法测量数据反演

为解决椭偏法测量薄膜厚度和折射率实验数据处理较为复杂的问题,采用一种新的基于群体智能的优化算法—粒子群算法处理实验数据.以单层吸收薄膜的测量为例,利用该算法进行数据处理.实验结果表明,三个薄膜参数(折射率n,消光系数k和薄膜厚度d)可以同时获得,而且在未知参数确切范围情况下,大范围内进行搜索仍然能保证快速收敛到最优解.文中算法和遗传模拟退火算法以及利用椭偏仪数据处理软件得出的结果相比较,表明该算法计算精度高,收敛速度快.