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带材纠偏和对中控制系统 总被引:2,自引:0,他引:2
本文介绍带材生产线中的纠偏和对中控制系统,主要阐述元件选择、硬件和软件设计以及系统功能。 相似文献
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通过对光头屏蔽罩(属典型罩形零件)进行冲压工艺分析,提出了该零件采用多工位级进模的冲压方案,并介绍了排样、模具结构及主要零件的设计过程。 相似文献
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在模具的维修和制造过程中,用合金磨头和砂轮修磨模具的形状后,最后要用细砂布进行表面打光。市场上所销售的表面抛光工具,其抛光头一般为圆盘状,对模具的深底及沟槽部位很难将其抛光,以前对这些位置我们完全靠手工用细砂布打磨,所以效率极其低下。现在我们制作了一种简易抛光头,推荐给大家。如附图所示,用一个大小为6的合金磨头,将其尾部用线切割加工成宽度为1.2mm、长度为30mm的槽即可。使用方法是将合金磨头倒装在风动工具上,再将细砂布一端插入槽中(砂布裁剪成30mm左右的宽度),顺时针缠绕在抛光头上即可使用。经使用后证明,制作这种抛… 相似文献
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CMP加工过程中均匀去除率的研究 总被引:2,自引:1,他引:1
种宝春 《电子工业专用设备》2007,36(1):58-61
半导体制造技术已经达到了亚微米技术水平,CMP(chemical mechanical planarization)化学机械抛光是IC制造工艺中进行全局平坦化唯一的途径,分析了针对大直径晶圆进行全局平坦化,达到面型精度和表面完整性的要求而采取的区域压力控制技术。 相似文献
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为了实现三维光信息存储的实用化, 在三维光盘存储实验系统的基础上, 改进、设计出了一种可用于三维数据存储的单侧读写光学头。对光学头进行了光学和控制系统的设计, 利用专门设计的耦合分光棱镜进行光束耦合和分离; 采用双音圈电机控制透镜的方式实现数据的选层; 进行了聚焦伺服系统的建模和仿真。结果表明双光束焦点同步误差保持在±3μm之内。 相似文献
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双层存储技术是最近两年光存储领域的主导技术,它可在同样大小的光盘上进行双屡数据写入到光盘的记录层上。在不改变光头波长和存储介质的情况下.轻松实现存储容量翻倍,这也是解决存光存储容积偏小的一个重要方案。 相似文献
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浅析金属带材纠偏设备 总被引:2,自引:1,他引:1
本文对金属带材生产线上应用的各类纠偏(对中)设备进行了较详细的分析介绍,可供设计选型和工程技术人员参考。 相似文献
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因光纤与光头接触不好,使入纤功率下降,导致判别电路误判,模块不参与循环工作,不输出电压,造成合成波形歧变,解调器不能平滑合成波形,产生特殊的噪声。 相似文献