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2.
SnO2 是最早使用也是目前使用最广泛的一种气敏材料 ,使用该材料设计制作的气敏传感器具有许多优点。在简要介绍溅射镀膜的成膜过程和特点的基础上 ,着重介绍了SnO2 膜的制备流程 ,分析了功率和温度变化对成膜质量的影响  相似文献   
3.
主要介绍了一种高精度基片预对准机构的设计思想、机构组成、工作原理和精度分析  相似文献   
4.
TiB2是一种超硬材料,块体TiB2的硬度高达HV30Gpa,而且耐腐蚀、抗氧化,还具有优良的导电性能,是一种受到广泛重视的导电耐磨涂层材料[1].  相似文献   
5.
6.
7.
薄轻短小化已成为电于产品,特别是携带型电子产品的技术发展的潮流。在这一发展潮流中,挠性印制(FPC)成为了电子产品所用的多种类型PCB中的一个“宠儿”。制造FPC用的抗性覆铜板(FCCL)是由铜箔(充当导电体)、薄膜(充当绝缘片)、粘接剂(在三层FPC中作为薄膜与铜箔的粘接材料)组成的。在这篇论述挠性印制电路板用原材料技术的新发展为内容的连载章中,此章主要以日本钟渊化学工业公司的挠性覆铜板的重要原材料——薄膜绝缘基片新产品为主要例,来论述FPC用原材料的技术新发展。  相似文献   
8.
流延法制作AlN陶瓷基片工艺   总被引:7,自引:1,他引:6  
研究出一种用流延法制作AIN陶瓷基片的工艺。制备出性能优良的AIN基片。经1650℃,保温2h无压烧结制得的基片,其热导率达130W/(m·K)、密度为3.34g/cm ̄3,表面光滑平整,瓷体结构均匀,性能达到用干压法制备的同类基片的性能。  相似文献   
9.
半导体器件中金线与基片焊接的可靠性   总被引:1,自引:0,他引:1  
金线与半导体器件中Si片连接的质量极大地影响着半导体器件的可靠性.本文叙述了金线与基片间接触面的状态,Au-Al系金属中间相的形成以及非金和贱金属线代替金线作内引线,具有热稳定性高,能降低材料成本,提高半导体器件焊接可靠性的优点.  相似文献   
10.
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