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采用磁控溅射方法在p-Si(111)衬底上淀积5nmPt膜,分别在350℃-600℃退火。原子力显微镜(AFM)观察和x射线光电子谱(XPS)分析表明,随退火温度的增加,平坦的薄膜表面变得粗糙,其相分布由Pt-Pt2Si-Ptsi变为Pt Pt2Si PtSi-Ptsi。 相似文献
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PtSi红外焦平面阵列技术的发展概况 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了PtSi肖特基势垒红外焦平面阵列技术的最新进展,分析了国内研究中存在的问题,并指出了今后的发展方向 相似文献
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Philips MRD3710 X射线衍射仪由于其灵敏度高、可靠性好、操作方便,常常用于薄膜测试分析。采用X射线衍射仪对在(100)Si表面溅射Pt,并通过退火处理形成的Pt和Si的化合物进行了测试分析,从而对PtSi膜的研制提供了可靠的数据。 相似文献
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介绍了PtSi/p-Si肖特基势垒红外探测器(简称IR-SBD)的优化结构及探测机理,给出了探测器的光增益模型,并对器件进行了制作及性能测试。器件在77K下,反偏4V时的反向漏电流为5×10(-6)μA,对1.52μm红外光的灵敏度为2.69×10(-2)A/W,量子效率为2.4%。 相似文献
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512×512元PtSi肖特基势垒IR CCD图像传感器 总被引:2,自引:0,他引:2
研制了隔行扫描单片式内线转移结构512×512元PtSi肖特基势垒红外电荷耦合器件(CCD)。器件采用最小2μm设计规则,两层多晶硅结构。器件的像元尺寸为36μm(H)×34μm(V),填充系数为40%。器件工作在80K温度下。在阵列帧频为30帧每秒及镜头为 F/1条件下,器件噪声等效温差为0.15K。用1000K黑体测得其探测率D~*为1×10~(10)cm·Hz~(1/2)/W。对器件设计及性能测试结果进行了介绍。 相似文献
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256×256 Si微透镜阵列与红外焦平面阵列单片集成研究 总被引:1,自引:0,他引:1
基于标量衍射理论设计了 8位相菲涅尔衍射微透镜阵列 .利用多次曝光和离子束刻蚀技术在大规模面阵( 2 5 6× 2 5 6) Pt Si红外焦平面阵列的背面制作了单片集成微透镜阵列样品 (单元面积为 3 0μm× 4 0μm ) .测试结果表明 ,单片集成微透镜的红外焦平面阵列样品的信噪比提高了 2 .0倍 . 相似文献
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