亚分辨图形相移掩模的制作方法

介绍亚分辨图形掩模的原理,应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺。     

193 nm光刻散射条技术研究

介绍了193nm光刻中的散射条技术，并利用标量衍射和傅里叶光学理论，对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析，从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH，对散射条的参数进行了优化，并总结出193nm光刻中孤立线散射条的优化方法。