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1.
本文介绍印制板液态感光阻焊油墨的工艺流程、工艺控制,并对生产中较常出现的几种质量问题进行讨论,进而提出解决措施。 相似文献
2.
采用自行研制的LB自动提膜装置,制备出大面积(10×8cm2)、高质量的PMMA超薄抗蚀剂膜,并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光,湿法蚀刻,制作了分辨率优于0.5μm,特征线宽0.38μm的4(100mm)铬掩模版。 相似文献
3.
A systemic process study on an electron beam nanolithography system operating at 100 kV was present. The exposure conditions
were optimized for resist ZEP520A. Grating structures with line/space of 50 nm/50 nm were obtained in a reasonably thick resist
which is beneficial to the subsequent pattern transfer technique. The ICP etching process conditions was optimized. The role
of etching parameters such as source power, gas pressure, and gas flow rate on the etching result was also discussed. A grating
structure with line widths as small as 100 nm, duty cycles of 0.5, depth of 900 nm, and the side-wall scalloping as small
as 5 nm on a silicon substrate was obtained. The silicon deep etching technique for structure sizes smaller than 100 nm is
very important for the fabrication of nano-optical devices working in the visible regime.
Supported by the National Basic Research Program of China (“973” Program) (Grant No. 2007CB935301) 相似文献
4.
5.
通过对35 m折线先张梁施工监测,来分析张拉横梁、反力梁的变形和转向器摩擦阻力对预应力损失的影响,以及其他情况下预应力损失.结果表明:先张折线形预应力箱梁的预应力损失的计算比后张法预应力损失的计算更准确,避免了预应力值不可靠带来的工程病害,而且先张折线形箱梁总的预应力损失值比后张法的预应力损失值要小,确保了张拉应力.分析指出混凝土的收缩和徐变引起受拉区和受压区的应力损失在先折线形箱梁总预应力损失的比重最大,所以采取办法减小混凝土的收缩和徐变是控制先张折线形箱梁总预应力损失的有效措施. 相似文献
6.
随着选煤自动化水平的不断提高 ,可编程序控制器 (PLC)在选煤行业中的应用日渐增多 ,分析了影响选煤厂PLC控制系统工作可靠性的主要因素 ,从软硬件两方面提出了抗干扰的主要措施 ,这些措施能够满足控制系统的要求 相似文献
7.
在信息技术革命的推动下,空袭和反空袭作战模式以及相应的战争形态发生了巨大变化.一方面随着无人机武器的高速发展,无人机将可能成为未来空天战场的主力力量;另一方面,随着我军现代化程度的提升,火力装备水平和信息化电子对抗手段都有了质的飞跃,具备了"电火一体"抗击无人机的作战能力.同时由于信息技术的发展,使得战场态势复杂且瞬息... 相似文献
8.
9.
结合淮安供电公司地下停车库工程的结构设计,比较了各种楼盖形式及不同的抗浮措施对单建式地下车库设计的影响,并指出其各自的优缺点。着重讨论了无梁楼盖体系的几种常用计算方法。最后分析了超长结构无缝设计中后浇带的受力特点,提出了后浇带设置时应注意的问题及超长结构裂缝控制的施工措施。 相似文献
10.
准确提取电子散射参数是确保纳米级电子束光刻邻近效应校正精度的关键。采用了一种不基于线宽测量和非线性曲线拟合的电子散射参数提取的方法。邻近效应校正的近似函数采用双高斯分布,其中η的提取是基于设计线宽变化与相应曝光剂量之间的线性关系进行拟合而得;α和β的提取则是分别根据前散射和背散射的范围设计特定的提取版图,并根据电子束邻近效应产生的特殊现象进行参数值的确定。根据此方法提取了150nm厚负性HSQ抗蚀剂层在50kV入射电压下的散射参数,并将其应用于邻近效应校正曝光实验中,很好地克服了电子束邻近效应的影响,验证了此方法提取电子束曝光邻近效应校正参数的实用性及准确性。 相似文献