首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   12252篇
  免费   665篇
  国内免费   1320篇
电工技术   658篇
技术理论   1篇
综合类   1036篇
化学工业   3051篇
金属工艺   1292篇
机械仪表   178篇
建筑科学   131篇
矿业工程   205篇
能源动力   115篇
轻工业   324篇
水利工程   23篇
石油天然气   129篇
武器工业   56篇
无线电   2444篇
一般工业技术   3311篇
冶金工业   944篇
原子能技术   132篇
自动化技术   207篇
  2024年   134篇
  2023年   443篇
  2022年   556篇
  2021年   537篇
  2020年   414篇
  2019年   485篇
  2018年   265篇
  2017年   325篇
  2016年   328篇
  2015年   447篇
  2014年   751篇
  2013年   620篇
  2012年   700篇
  2011年   832篇
  2010年   750篇
  2009年   753篇
  2008年   902篇
  2007年   809篇
  2006年   658篇
  2005年   524篇
  2004年   494篇
  2003年   337篇
  2002年   331篇
  2001年   271篇
  2000年   239篇
  1999年   166篇
  1998年   141篇
  1997年   123篇
  1996年   168篇
  1995年   162篇
  1994年   118篇
  1993年   81篇
  1992年   106篇
  1991年   93篇
  1990年   74篇
  1989年   60篇
  1988年   13篇
  1987年   12篇
  1986年   7篇
  1985年   1篇
  1984年   3篇
  1983年   3篇
  1951年   1篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 7 毫秒
1.
《南昌水专学报》2015,(1):56-59
介绍了CoSb3合金的基本特性、制备方法和成分掺杂.评述了目前通过不同的元素掺杂在热电性能方面取得的重大进展.指出通过结构优化、组分调整,可进一步提高CoSb3基合金的热电性能.  相似文献   
2.
赵秀琴  向乾坤 《化工新型材料》2019,47(4):194-195,199
利用溶胶-凝胶法制备了Zn掺杂改性TiO_2催化剂。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜对制备的光催化剂进行表征,考察了该催化剂对亚甲基蓝废水的光催化降解性能。结果表明,Zn成功掺入TiO_2中,Zn掺杂改性TiO_2和纯TiO_2均属于锐钛矿TiO_2晶型。在催化剂投入量为1.5g/L、亚甲基蓝质量浓度为10mg/L、降解时间为0~2h条件下,Zn掺杂改性TiO_2催化剂对亚甲基蓝溶液的降解率超过60%,明显高于纯TiO_2的降解率。  相似文献   
3.
采用水热反应的方法合成了金属镁掺杂的磷铝分子筛MgAPO-5,通过XRD、DR UV-Vis、FT-IR等手段对其结构性能进行表征,并以亚甲基蓝溶液为目标降解物,在可见光下考察了MgAPO-5的光催化性能.结果表明,MgAPO-5具有与AlPO4-5相同的分子筛结构,掺杂的镁可能存在于磷铝分子筛的骨架中,在可见光下对亚甲基蓝溶液具有优良的光催化性能,反应5 h,脱色率可达92.5%.  相似文献   
4.
直流反应磁控溅射生长p型ZnO薄膜及其特性的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
  相似文献   
5.
研究了Ca掺杂钨镁酸铅(PMW)陶瓷材料的合成、结构、烧结以及介电性能。结果发现:在Ca^2 摩尔分数小于15%时,能形成单相的PCMW钙铁矿相,结构由原来的斜方相向立方相转变。用二步合成法制备的样品容易致密烧结,气孔率比一步法制备的样品小。Ca的加入降低了材料的介电损耗,在频率为1MHz时,介质损耗达到了10^-4。当Ca^2 摩尔分数大于10%时,材料的Curie峰宽化显著,介电常数温度系数降低。  相似文献   
6.
中子辐照区熔(氢)硅片经退火后在近表面形成洁净区,在硅片内部形成体内微缺陷.微缺陷的形成与中子辐照造成的损伤及单晶硅内氢杂质的催化加速有关,还与后续退火条件有关.第一步退火的温度对微缺陷的尺度有很大的影响,中低温要比高温所形成的微缺陷小.在退火过程中微缺陷有一个生长过程,1100℃退火2h微缺陷已达最大.硅片表面的粗糙度影响表面洁净区的形成,洁净区出现在未抛光面,双面抛光硅片不会形成表面洁净区.  相似文献   
7.
LDD方法在提高电路工作电压中的应用研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
曾莹  王纪民 《微电子学》1997,27(1):37-42
研究了利用轻掺杂漏结构来制作高电源电压器件的工艺方法。分析了LDD结构参数对器件击穿特性的影响,并结合实验结果对N^-区的注入剂量,长度及引入的串联电阻进行了优化设计。  相似文献   
8.
采用溶胶凝胶方法成功地制备了掺杂稀土铽离子的 Zn O和 Mg0 .1 5Zn0 .85薄膜。通过对 X射线衍射结果的分析表明 ,稀土离子替代了 Zn2 +的格位 ,进入了半导体基质的晶格中。从阴极射线发光结果可以发现 ,在Mg0 .1 5Zn0 .85O基质中 ,可以观察到来源于稀土铽离子各能级的发射 ,而 Zn O:Tb的薄膜只能观察到较强的铽离子 5D4 — 7F5能级的跃迁。这可能是由于 Mg0 .1 5Zn0 .85O基质的能隙 (3 .65 e V)比 Zn O更宽 (3 .3 e V) ,其对铽离子的能量传递更有效的缘故。  相似文献   
9.
10.
The photoluminescence properties of BiTaO4:Pr^3 and BiTaO4 at room temperature were studied, and the infrared transmission and diffusion reflection spectra of BiTaO4 were measured. The photoluminescence spectrum of BiTaO4 peaks at about 420, 440 and 465nm. There has an obvious excitation band from 330 to 370nm. The photoluminescence spectrum of BiTaO4:Pr^3 consists of the characteristic emission of Pr^3 , and its main peak is at 606 nm from ^3P0→^3H6 transition of Pr^3 . Its excitation spectrum consists of the wide band with maximum at 325nm, the wide band in the range of 375-430nm, and the characteristic excitation of Pr^3 .The bands at 325nm and 375-430nm may be from the absorption of the charge transfer transition of the tantalate group and defect energy levels in its forbidden band, respectively.There is energy transfer from host to Pr^3 . Because both the host density and photoluminescence peak intensity of BiTaO4:Pr^3 are superior to PbWO4, BiTaO4:Pr^3 may be a potential heavy scintillator.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号