基于非锐化掩模的实时自适应图像增强算法

针对传统的非锐化掩模算法的局限性,依据图像中各像素点及以其为中心的若干相邻像素点的均方差值,提出了自适应图像增强算法的原理,并分析其硬件实现方法,然后给出了该算法与其它算法应用于图像增强的对比结果,最后在FPGA（field programmable gate array）实验板上进行验证.实验结果表明,此算法有效的增强图像的细节区域,防止图像边缘区域出现过冲现象,抑制图像平坦区域的噪声放大.因此,该算法取得了良好的视觉效果,硬件实现简单,适合于实时条件下图像的增强.     

只读式超分辨光盘的膜层设计和分析

超分辨技术是一种无需减小记录波长或增大数值孔径而提高存储密度的方法。Ge Sb Te是一种良好的相变光存储材料 ,在超分辨光盘中可作为掩膜。利用多层膜反射率的矩阵法计算了掩膜为Ge2 Sb2 Te5薄膜的超分辨只读式光盘的光学参数与各膜层厚度之间的关系 ,最后得到了较为理想的膜层厚度匹配。采用磁控溅射法制备了只读式超分辨光盘 ,测量了光盘的光学性质。     

用LIGA技术制作微马达构件

阐述了LIGA技术的组成及特点。对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了朱理分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程，并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻，得到了深度为500μm，深宽比达8．3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和X射线光刻照片。同时，对Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究。     

智能剪刀在进入式漫游中的应用

在图像分割中,＂智能剪刀＂（Intelligent scissors）是一种非常有用的交互方法,在这种方法中,通过交互地应用动态规划中图搜索算法,用户可以精确地得到图像中感兴趣的区域,在文章中,将＂智能剪刀＂应用于进入式漫游（TIP）中。用户用＂智能剪刀＂从图像中得到的前景信息可以方便的确定前景在TIP漫游场景中的位置。从而使以前用Photoshop操作并需要人工确定前景位置操作简单化。     

基于掩膜的光谱二阶导数法目标提取

提出一种简单实用的目标提取方法:基于掩膜的光谱二阶导数法.它是在掩膜的基础上对目标光谱和像元光谱进行二阶导数编码后计算两条光谱曲线的相似度,然后,根据相似度与识别误差来判别像元的归属,从而达到识别目标的目的.试验结果证明,由于综合使用了光谱强度和光谱波形特征,相对光谱二阶导数法而言,最高精度的平均值提高了34%,平均精度的平均值提高了43%,同时,目标提取试验结果也表明它是一种有效的目标提取算法.     

上海芯动

2004年年末的上海,正在展现出一座芯城的雏形。 继中芯国际立足上海之后,英特尔、台积电等知名芯片厂商在这一年也纷至沓来,在巨人的身影之后,是迅速生长和聚集起来的一群芯片业厂商。随着大量芯片厂和IC设计企业的入驻,在以张江科技园区为核心的浦东地区,正在形成包括研发设计、制造、光掩膜、封装、测试、设备、材料、气体、模具、引线框架、专业人才培训、技术服务等环节在内的近乎完整的产业链,并已经开始产生集群效应.同时,上海的芯片业也已经开始了由低端向高端的迁移和进化。人才、资金、技术,从世界各地向上海汇聚而来,让这座城市的芯片产业一时间蔚成气势。 2000年时张汝京的那个大胆的预测——芯片制造业的下一个中心将在上海——看上去正在一点点地变成现实。 上海已经是国内芯片制造业的第一城市。但在一片迅速成长的嘈杂声中,细心的观察者不难发现。上海芯片业的发展形态并没有最终定型,产业的“身形”也略显单薄,同时,政策指向的游移不定、封装测试等配套产业的远不完善、各类人才的暂时流失,也使得上海芯片工业于迅速发展中屡处险境。 不过,看上去好消息要远多于坏消息:生产最关键、最昂贵的光刻机部件的某制造商有望整体迁移至上海芯片制造工艺已经开始了向高端的实质性迁移;众多IC设计     

无源探测中微弱目标的多步检测算法研究

针对在无源探测中掩膜效应严重影响远处微弱目标的检测问题,提出了一种多步检测算法。该算法采用广义对消算法去除目标回波中由于掩膜效应造成的直达波和杂波,并利用优化的CLEAN算法消除近处强目标回波,通过逐步消除强目标回波,达到提高检测微弱目标性能的目的。仿真结果表明,该算法能够较准确地估计出微弱目标的位置,计算量较小,在复杂背景下同样能够较好地检测出目标。     

结合DCT域掩膜和Zernike矩的自适应鲁棒水印算法

水印的鲁棒性和不可见性常常存在矛盾,为了权衡二者,提出了一种新的自适应鲁棒水印算法。利用人类视觉掩蔽特性生成原始图像对应的DCT域掩膜,再结合其值通过不同强度地调整各8×8 DCT块内一对中频系数间的大小关系来自适应的嵌入水印,提取水印时,利用Zernike矩方法进行几何校正来抵抗几何攻击。实验结果表明,该算法很好地解决了水印鲁棒性和不可见性之间的矛盾,对常见几何攻击和常规信号处理攻击具有很好的鲁棒性。     

基于声音信号和改进MS-LMD的风电齿轮箱故障诊断

基于声音信号的机械故障诊断切实可行,但风电齿轮箱声音信号可拾取到机舱内的多个振源信号和干扰噪声,影响故障的精确定位,为此,提出一种改进的局部均值分解(local mean decomposition,LMD)方法,通过分离声音信号中的调频调幅成分,实现齿轮箱复合故障诊断.根据掩膜信号(masking signal,MS...     

用于各向同性湿法刻蚀中的氮化硅掩膜

在硅的各向同性湿法刻蚀过程中,一般选用HNA溶液(即氢氟酸、硝酸和乙酸的混合溶液)作为刻蚀液,而氮化硅以其很好的耐刻蚀性而优先被选为顶层掩膜材料.在硅片上刻蚀不同的结构,通常需要选择不同的刻蚀液配比.而不同配比对于氮化硅掩膜的刻蚀速率也不一样.分别用PECVD和LPCVD两种方法在<111>型硅片上沉积了厚度为560和210 nm的氮化硅薄膜,研究和对比了它们在8种典型配比刻蚀液下的刻蚀速率,为合理制作所需要厚度的氮化硅掩膜提供有益参考.