连续激光引起高空中动态靶材破坏的理论计算

本文在文献[1]和[2]的基础上,考虑动态靶目标是受载结构的影响,综合考虑大气吸收、散射、湍流及热畸变效应对激光传输的影响,计算了连续激光引起高空中动态靶目标的破坏阈值。     

溅射靶材的应用及制备初探

随着电子及信息产业突飞猛进的发展，世界溅射靶材的需求越来越多，本文介绍了靶材的发展概况、分类和应用情况，以及靶材的特性要求．探讨Ni-Cr合金靶材的制备工艺，结果表明，产品能满足靶材特性要求。     

PTC－BaTiO_3射频溅射用靶材的制备

研究了用于射频溅射ＰＴＣ－ＢａＴｉＯ_３薄膜的厚大靶材制备工艺，所制成的靶材的室温电阻率为８００Ω·ｃｍ，ＰＴＣ效应＞１０５，平均粒径为１～３μｍ，讨论了配方中ＴｉＯ_２品种的选择、施受主添加剂的搭配与掺量以及烧成中的升降温速率对于ＰＴＣ效应的影响     

YBCO高温超导靶材制备工艺研究

进行了用钇钡铜氧（ＹＢＣＯ）系高温超导粉制备磁控和激光溅射超导薄膜用靶材的工艺研究。对靶材原料粉末的质量要求和制靶工艺进行了探讨，对影响靶材质量进而影响膜材质量的主要因素（如成分、纯度、均匀性、粒度及超导电性等）进行了研究。多家超导薄膜研究单位对本工艺靶材的使用结果证明了材料的优良品质，采用本工艺研制的大直径环形靶制出的超导薄膜，Ｊｃ值均在１０￣６Ａ／ｃｍ￣２水平。     

铟锡氧化物靶材的应用及管状靶材的爆炸成形

铟在自然界是稀散金属，其氧化物具有许多优异的性能，合理利用铟资源的重要途径之一是生产铟锡氧化物（ＩＴＯ）靶材，介绍了ＩＴＯ靶材的应用领域，分析了平面ＩＴＯ靶材与管状ＩＴＯ靶材的特点，提出了ＩＴＯ管状靶材的爆炸成形技术，与现有成形技术相比，爆炸成形工艺特别适用于管状靶材成形，对制粉的要求将降低，不丧失粉末的优良性质，通过爆炸成形工艺的分析可知，适当控制状飞片厚度，飞行距离，爆速，炸药厚度并与粉末材料     

高纯金属溅射靶材产品简介

北京有色金属与稀土应用研究所具有多年的靶材研制、生产历史，积累了丰富的经验，生产基础好，技术力量雄厚，是目前国内唯一用自主开发科研成果进行铝合金靶材生产的单位。1996年进行了国家重点军工科技项目《电子工业用铝合金靶材》的研制，1998年自行开发了金砷靶材并已经实现较大规模的生产和销售。能够提供高纯度，高质量，高性能的合格产品。     

爆炸压实烧结ITO陶瓷靶材的实验研究

通过爆炸压实烧结纳米ITO粉末制备了ITO陶瓷靶材，结果表明爆炸冲击压实在靶材的后续烧结密实过程中起到了促进作用，它与常规的加压烧结相比，具有操作简单，设备要求低等很多优点。经过爆炸压实的烧结靶材具有细小的晶体颗粒，比商业靶材的晶粒度小约1个数量级。     

非平衡平面磁控溅射阴极及其镀膜装置

本发明公开了一种C3N4／MN多层复合超硬薄膜以及合成此膜的装置和广方法，该膜包括NM过渡层，C3N4／MN主耐磨层和MN表面减磨层，具有很高的显微硬度，采用本发明的装置和方法制备该膜，时间短，效率高，合成成本低，其显微镜硬度高达40－55MPa，因此在高速工具钢和其他耐磨涂层工件上镀制氮化碳超硬薄膜，具有很大的实用价值。     

陶瓷溅射靶材的发展与应用

在信息产业不少基础产品的制造过程中需使用多种陶瓷溅射靶材，世界陶瓷靶材的市场销售规模日益扩大。本文简要介绍了陶瓷靶材的应用分类、性能要求、制备工艺及溅射靶材制造中急需解决的主要技术问题。