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1.
2.
We investigated the resistive switching characteristics of a polystyrene:ZnO–graphene quantum dots system and its potential application in a one diode-one resistor architecture of an organic memory cell. The log–log IV plot and the temperature-variable IV measurements revealed that the switching mechanism in a low-current state is closely related to thermally activated transport. The turn-on process was induced by a space-charge-limited current mechanism resulted from the ZnO–graphene quantum dots acting as charge trap sites, and charge transfer through filamentary path. The memory device with a diode presented a ∼103 ION/IOFF ratio, stable endurance cycles (102 cycles) and retention times (104 s), and uniform cell-to-cell switching. The one diode-one resistor architecture can effectively reduce cross-talk issue and realize a cross bar array as large as ∼3 kbit in the readout margin estimation. Furthermore, a specific word was encoded using the standard ASCII character code.  相似文献   
3.
为测试倾斜摄影测量技术路线,并通过实际项目的应用,解决传统古建筑建模过程中存在的时间成本高、难以还原复杂场景等问题。按照倾斜摄影技术的技术路线,进行朱氏宗祠建筑测绘试验,并通过基于altizure软件建立三维模型来展现倾斜摄影测量技术流程。验证无人机倾斜摄影应用于古建筑三维建模的可行性和可操作性。  相似文献   
4.
High magnetic fields are one of the most powerful tools available to scientists for the study, modification and control of matter. This includes the knowledge on correlations effects, interaction mechanisms, structural information and understanding of mesoscopic effects. In this context, a review of recent scientific achievements at the Grenoble High Magnetic Laboratory is given to illustrate, on specific examples, the power of the Magnetic Field probe.  相似文献   
5.
本文介绍织机监测的数据采集系统即巡检系统,重点讨论了巡检方案的选择、巡检电路的设计、巡检软件的编制以及几种抗干扰的措施。  相似文献   
6.
Si衬底上Ta-N/Cu薄膜性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
对Si衬底上Ta-N/Cu薄膜进行了电学和热学分析,结果发现500℃以下薄膜电随几乎不变,600-690℃下的退火引起的电阻率降低是由于Ta-N电阻的热氧化和Cu熔化扩散引起的,而690℃以上的电阻率增加是由于Cu引线传输能力减弱所致,为0.18μm以下的超大规模集成电路中的Cu引线和电阻薄膜的制作提供了有益的借鉴。  相似文献   
7.
从应用的角度出发,介绍合理设计应用电路和合理选择数字电位器的种类与型号,来克服数字电位器普遍存在的主要缺点的方法。文章具有较强的针对性和可操作性,对数字电位器的应用实践具有指导作用。  相似文献   
8.
Variable-magnetic-field Hall measurements (0 to 1.5 T) are performed on very-narrow-gap bulk-grown Hg1−xCdxTe single crystals (0.165 ≤ x ≤ 0.2) at various temperatures (10 to 300K). The electron densities and mobilities are obtained within the one-carrier (electrons) approximation of the reduced-con-ductivity-tensor scheme. The present data together with the selected data set reported by other workers exhibit a pronounced peak when the electron mobility is plotted against the alloy composition x-value which has been predicted to be due to the effective-mass minimum at the bandgap-crossing (Eg ≈ 0). The observed position (x ≈ 0.165), height (≈4 x 102 m2Vs), and width (≈0.01 in x) of the mobility-peak can be explained by a simple simulation involving only ionized-impurity scattering. A lower bound of the effective mass is introduced as a fitting parameter to be consistent with the finiteness of the observed electron mobility and is found to be of the order of 10−4 of the mass of a free electron.  相似文献   
9.
The GaSb layers investigated were grown directly on GaAs substrates by molecular beam epitaxy (MBE) using SnTe source as the n-type dopant. By using admittance spectroscopy, a dominant deep level with the activation energy of 0.23-0.26 eV was observed and its concentration was affected by the Sb4/Ga flux ratio in the MBE growth. A lowest deep-level concentration together with a highest mobility was obtained for GaSb grown at 550°C under a Sb4/Ga beam equivalent pressure (BEP) ratio around 7, which should correspond to the lowest ratio to maintain a Sb-stabilized surface reconstruction. In the Hall measurement, an analysis of the temperature-dependent mobility shows that the ionized impurity concentration increases proportionally with the sample’s donor concentration, suggesting that the ionized impurity was introduced by an SnTe source. In addition, optical properties of an undoped p-, a lightly and heavily SnTe-doped GaSb layers were studied by comparing their photoluminescence spectra at 4.5K.  相似文献   
10.
p型碲镉汞液相外延材料Ag掺杂的研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
利用SIMS和变温霍尔测量手段对P型Hg0.77Gd0.23Te液相外延材料的Ag掺杂技术、机理及掺杂碲镉汞材料的性能进行了研究。结果表明采用AgNO3溶液直接浸泡方式对该材料进行掺Ag是成功的,掺杂浓度与被掺杂材料中的汞空位浓度是一致的,掺杂后,P型碲镉汞材料的受主能级比掺杂前有明显的减小,从实验结果可看到掺Ag碲镉汞材料的电学性能在室温下保持稳定。  相似文献   
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