计算机辅助服装设计的应用

介绍了计算机辅助服装设计在服装设计、服装生产中的应用情况，分析了服装CAD在服装设计、服装生产中显示出来的强大优势，同时指出了目前国内服装CAD在应用过程中存在的问题。     

样片分析，视频格式我知道

“哈哈,总算搞到（生化危机4）DVD版了!”BB君在寝室吼道,我们一致对他投去鄙视的眼神,都知道这家伙是为了看片子里的女主角米拉的!不过好事多磨,这不,还有半个小时就上课了,想马上着完这部片子是没指望了。BB君当机立断,决定把片子转到手机上在上课的时候偷偷地看。随之问题又来了,转换工具里没有他的手机型号,面对一堆不知所云的视频参数,这该如何是好？     

一种光谱型椭偏仪的校准方法

针对光谱型椭偏仪校准结果受测量模型影响大的问题进行研究,提出一种不受测量模型影响的校准方法,即通过校准椭偏角实现光谱型椭偏仪的校准。依据椭偏仪测量原理,通过仿真分析确定实现较大范围内椭偏角校准所需标准样片的薄膜厚度量值,并采用半导体热氧化工艺制备出性能稳定的膜厚标准样片。使用标准样片对型号为M-2000XF的光谱型椭偏仪的椭偏角进行校准,样片厚度为2,50,500 nm对应的椭偏角偏差分别在±0.6°,±1.5°,±2°以内,该偏差对薄膜厚度的影响不超过±0.5 nm。经实验表明:该方法不受椭偏仪测量模型的影响,可有效解决光谱型椭偏仪的校准问题。     

X荧光分析仪在无煤生料浆自动测量中的应用

本章根据中铝公司河南分公司引进的 X 荧光分析仪在生料浆分析中与化学分析的复合度存在一定偏差的问题,从以下方面进行了分析:样片制作不标准、样品室真空度不足、归一样片有变化。对采取的加强样片制作标准等六项措施进行改进和预防,从而有效提高了两种分析方法的复合度,使得用 X 荧光分析仪进行常规分析的结果更加接近于生产实际。     

纳米级线宽标准样片的设计与制备

介绍了纳米级线宽标准样片的用途及其在校准扫描电子显微镜中存在的问题,设计了具有快速循迹结构的线宽标准样片,采用电子束光刻工艺制作了标称宽度为25nm～200nm的线宽样片.以50nm和200nm线宽为例对样片的线宽偏差、线边缘粗糙度、线宽均匀性和稳定性进行了考核.结果表明,标称值50nm～200nm的样片线宽值与设计值...     

粒子群算法在BRDF模型参数优化中的应用

根据粗糙样片1.06微米激光双向反射分布函数(BRDF)的实验数据,利用粒子群算法结合BRDF五参数模型,对不同样片表面的BRDF进行了统计建模,获得了对应样片BRDF模型的参数值与偏差.获得的BRDF优化统计模型与没有参与优化建模的实验数据也吻合良好,验证了建模结果的合理性与正确性.将粒子群算法与遗传算法进行了比较,表明无论是优化计算时间还是拟合的精度,前者都明显优于后者.     

服装样片裁剪空行程路径的优化算法

服装样片裁剪空行程路径是影响裁床裁剪效率的重要因素,裁剪路径优化有助于提高裁剪效率。针对裁剪空行程优化问题,先构建了裁剪空行程路径的数学模型,结合遗传算法和蚁群算法的优势,提出了遗传蚁群混合算法优化裁剪空行程。算法先利用遗传算法的快速搜索能力建立蚁群算法的初始信息素分布,然后采用蚁群算法求精确解,最后建立仿真实验验证混合算法的可行性,与基本遗传算法相比,混合算法具有较优的全局优化性能。     

中小屏幕TFT-LCD驱动芯片的输出缓冲电路

在分析中小屏幕TFT-LCD驱动芯片的负荷特性的基础上,提出了一种新型的驱动电压输出缓冲电路结构.通过负反馈动态控制输出级的工作状态,具有交替提供拉电流和灌电流的驱动能力,可有效抑制输出电压的波动.与传统的两级运算放大器电路相比,该电路结构简单,稳定性能好,降低了静态功耗并节省了芯片面积.采用0.25μm CMOS工艺设计并实现了两种不同输出电压的缓冲电路.HSPICE仿真结果表明,输出电压缓冲电路的静态电流为3μA,Offset电压小于±2mV.同时,当TFT-LCD的驱动电压在-8～ 16V之间切换时,输出电压的波动范围小于±0.4V,输出电压的恢复时间小于7μs.经对工程样片的测试知,其性能完全满足中小屏幕TFT-LCD驱动控制芯片的要求.