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1.
《国外坦克》2015,(2):2
<正>~~  相似文献   
2.
经过一个多月的时间,选定了《发烧天书》A极榜推荐的森海塞尔HD600。当时感觉似乎580音乐味更浓。但600是现今H1-F1的发展方问,且很适合胆机。国内市场品牌耳机主要有森海塞尔(Sennhelser)、爱科技(AKG)、宝路(PRO)、歌德(GRAD0)、索尼等。目前市场上的中高档耳机品种最多的是“森海塞尔”牌。“森海塞尔”在耳机世界中一直占领先地位,品种也多,  相似文献   
3.
钱毅  胡雄伟 《半导体学报》1994,15(4):289-294,T001
本文报道在650℃的衬底温度下实现了MOCVD在(100)面和(111)面上生长GaAs与Al0.4Ga0.6As的不同选择性。这一衬底温度比国际上以前报道的要低,对制作适于光电器件的GaAs/AlGaAs量子阱层比较有利。用此技术,在GaAs非平面衬底上生长了GaAs/Al0.4Ga0.6As量子阱,并用扫描电镜、低温光致发光谱及偏振激发的光反射率谱技术进行了研究。结果不仅证明了MCCVD外延生  相似文献   
4.
叶志镇  谢琪 《半导体学报》1996,17(12):932-935
本文报道了自己研制的一台超高真空化学汽相溶积系统,本底真空达10^-7Pa。该系统配有反射高能电子衍射仪,可对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控。  相似文献   
5.
高质量ZnO薄膜的退火性质研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
在LP-MOCVD中,我们利用Zn(C2H5)2作Zn源,CO2作氧源,在(0002)蓝宝石衬底上成功制备出皮c轴取向高度一致的ZnO薄膜,并对其进行500℃-800℃四个不同温度的退火。利用XRD、吸收谱、光致发光谱和AFM等手段研究了退火对ZnO晶体质量和光学性质的影响。退火后,(0002)ZnO的XRD衍射峰强度显著增强,c轴晶格常数变小,同时(0002)ZnOX射红衍射峰半高宽不断减小表明晶粒逐渐增大,这与AFM观察结果较一致。由透射谱拟合得到的光学带隙退火后变小,PL谱的带边发射则加强,并出现红移,蓝带发光被有效抑制,表明ZnO薄膜的质量得到提高。  相似文献   
6.
报道了用分子束外延的方法制备3英寸HgCdTe薄膜的研究结果,获得的HgCdTe外延材料均匀性良好,在直径70mm圆内,组份标准偏差率为1.2%,对应80K截止波长偏差仅为0.1μm.经过生长条件的改进,表面形貌获得了大幅度改善,缺陷密刃∮00cm-2,缺陷尺寸小于10μm,可以满足大规模HgCdTe焦平面列阵的应用需求.抖  相似文献   
7.
8.
罗江财 《半导体光电》1989,10(3):78-81,88
本文根据实际测量结果,一叙述了半导体衬底制片质量对外延生长的影响。特别是,讨论了在 GaAs、InP 衬底中,产生于切片、研磨和抛光加工过程中的机械损伤的影响。  相似文献   
9.
P型长波Hg1—xCdxTe材料MBE生长技术研究   总被引:5,自引:2,他引:3  
用分子束外延的方法GaAs衬底上研制了P型长波HgCdTe材料,及32×32小规模长波混成红外焦平面列阵,其材料的均匀性以及生长材料的参数的可重复性良好,在适当的热处理条件,材料P型电学参数达到了较高水平,并具有良好的可重复性。  相似文献   
10.
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