首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

平栅型双层膜阴极的脉冲电压处理及场致发射性能研究
引用本文:林金阳,张永爱,杨尊先,郭太良.平栅型双层膜阴极的脉冲电压处理及场致发射性能研究[J].功能材料,2014(19).
作者姓名:林金阳  张永爱  杨尊先  郭太良
作者单位:1. 福建工程学院 信息学院,福州,350108
2. 福州大学 光电显示技术研究所,福州,350002
基金项目:国家自然科学基金资助项目,福建省自然科学基金资助项目,福建工程学院科研基金资助项目
摘    要:采用脉冲电压法对平栅双层膜阴极进行处理,进一步提高其场致发射性能。采用磁控溅射法在平行栅电极上溅射氧化铋薄膜和氧化锡薄膜,并对薄膜进行AFM分析,通过场致发射测试结果表明,经过脉冲电压法处理后的平行栅双层膜阴极的发射性能,如亮度、均匀度等有了很大的提高,阳压为3 000 V,栅压为190 V,其腔体亮度可达462 cd/m2。平行栅双层膜阴极的脉冲电压处理可以有效改善阴极的场发射性能,为改善SED阴极结构及材料提供了一条有效的实验方法。

关 键 词:平行栅  场发射  氧化锡薄膜  氧化铋薄膜

Research on field emission property of the planar-gate triode with double-layer films cathode treated by pulse voltage
LIN Jin-yang,ZHANG Yong-ai,YANG Zun-xian,GUO Tai-liang.Research on field emission property of the planar-gate triode with double-layer films cathode treated by pulse voltage[J].Journal of Functional Materials,2014(19).
Authors:LIN Jin-yang  ZHANG Yong-ai  YANG Zun-xian  GUO Tai-liang
Abstract:
Keywords:Bi2 O3  field emission  chemical synthesis  organic solvent
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号