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高压高速SOI-LIGBT的研制
引用本文:杨健,张正璠,李肇基,李学宁.高压高速SOI-LIGBT的研制[J].微电子学,1999,29(5):366-369.
作者姓名:杨健  张正璠  李肇基  李学宁
作者单位:电子科技大学,微电子所,四川成都,610054
基金项目:国家“九五”军事预研项目,国防基金项目
摘    要:采用数值模拟分析了双降场层SOI-LIGBT击穿电压与SOI层厚度和隔离SiO2层厚度的关系,分析了阳极短路面积比对器件正向压降,关断时间和正向转折电压的影响,并利用硅直接链合技术研制出580V的阳极短路SOI-LIGBT,拳断时间250ns。

关 键 词:横向绝缘棚  双极晶体管  智能功率IC  SOI-LIGBT

The Development of High Voltage/High Spe ed SOI-LIGBT
YANG Jian,ZHANG Zhen-fan,LI Zhao-ji,LI Xue-ning.The Development of High Voltage/High Spe ed SOI-LIGBT[J].Microelectronics,1999,29(5):366-369.
Authors:YANG Jian  ZHANG Zhen-fan  LI Zhao-ji  LI Xue-ning
Abstract:
Keywords:LIGBT  Smart  power  integrated  circuit(SPIC)  Silicon  on  insulator(SOI)  Silicon  direct  bonding(SDB)
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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