首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

退火温度对SmCo非晶薄膜显微结构和磁性能的影响
引用本文:祝要民,宋晓平.退火温度对SmCo非晶薄膜显微结构和磁性能的影响[J].金属热处理,2004,29(11):17-20.
作者姓名:祝要民  宋晓平
作者单位:1. 河南科技大学,材料学院,河南,洛阳,471039;西安交通大学,理学院,陕西,西安,710049
2. 西安交通大学,理学院,陕西,西安,710049
基金项目:教育部科学技术重点项目 ( 60 10 0 1)
摘    要:用直流磁控溅射方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜,并通过不同的退火处理使其具有不同晶粒大小的晶化组织和磁性能。用透射电镜(TEM)及电子衍射分析薄膜在不同状态下的微观组织形貌和相结构,用振动样品磁强计(VSM)分析薄膜的磁性能变化规律。结果表明,溅射态薄膜为非晶,在400℃退火薄膜已晶化,在450℃退火时晶粒均匀细小且磁性能优良;500℃以上退火时出现不均匀粗大晶粒,对应的磁性能降低。同时探讨了SmCo磁控溅射非晶磁性薄膜晶化过程的组织结构和磁性能变化的关系。

关 键 词:SmCo薄膜  退火处理  微观形貌及结构  磁性能
文章编号:0254-6051(2004)11-0017-04

Effect of Annealing Temperature on Microstructure and Magnetism of SmCo Amorphous Film
ZHU Yao-min.Effect of Annealing Temperature on Microstructure and Magnetism of SmCo Amorphous Film[J].Heat Treatment of Metals,2004,29(11):17-20.
Authors:ZHU Yao-min
Affiliation:ZHU Yao-min~
Abstract:
Keywords:SmCo magnetic films  annealing  micrographs and structure  magnetic properties
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号